根据该模型，龙兴模型蚀刻片怎么样NBTI失效时间如下：F = A0exp (-ϒE) exp (Ea / kBT) (7-13) 表示的公式中，A0 = [1 / C (△ Vth / Vth) crit] 1 / m (7-14) C0 是一个 A与 Si/SiO2 界面处的 Si-H 键浓度成比例的常数。 m 是时间 t 的幂律指数，一般 m = 0.15 到 0.35。
由式(7-14)可以看出，龙兴模型蚀刻片怎么样失效前的时间系数A0正向依赖于参数劣化临界值，反之依赖于Si/SiO2界面处的Si-H键浓度。如果 C0 趋于 0，则 NBTI 失效时间是无限的。 NBTI退化的饱和现象也可以用反应扩散模型来解释。这是因为随着时间的推移，Si-H 键的数量受到限制，未切割的 Si-H 数量减少，SH 引起的降解率降低。伤害也减少并接近于零。
一层带负电荷的氧气集中在表面上，龙兴模型蚀刻片怎么样形成界面偶极层。这增加了 ITO 的表面功函数并显着提高了 ITO 的空穴注入能力。此外，经过等离子清洗装置处理后，ITO的表面粗糙度降低，ITO薄膜与NPB之间的界面能降低，有利于空穴注入，激子与从阴极注入的电子复合产生。用阳极制成的那些是明亮的和高质量的。。等离子清洗装置是一种什么样的CNC加工技术，这是众所周知的。
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