通过将样品放入反应室，溅射镀膜附着力大原因真空泵在一定程度上启动真空泵，打开电源产生等离子体，然后将气体引入反应室，反应室中的等离子体变成反应等离子体，这些。等离子体与反应等离子体结合。样品表面反应产生挥发性副产物，这些副产物由真空泵抽出。等离子清洗技术利用等离子在低温下产生非平衡电子、反应离子和自由基的能力。等离子体中的高能反应基团与表面碰撞，引起溅射、热蒸发或光解。
等离子体清洗等离子体表面清洗离子清洗是通过物理溅射或气体电离后产生的等离子体在污染表面上的化学反应来分解污染物，溅射镀膜附着力大原因分解后的产物随气流从表面带走，得到干净干燥的表面。
一篇文章读懂等离子体刻蚀1.Plasma：广泛应用而又杂乱的物理进程等离子体刻蚀在集成电路制作中已有40余年的发展历程，溅射镀膜附着力大原因自70年代引入用于去胶，80年代成为集成电路范畴成熟的刻蚀技能。
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