目前主要采用的刻蚀技术有离子束刻蚀(IBE)、电感耦合电晕刻蚀(ICP)、反应离子刻蚀(RIE)等系统。值得注意的是，电晕机外套管带有电弧怎样处理磁性隧道结的形状不仅影响器件性能，还会显著影响电晕清洁器的蚀刻工艺，例如圆柱形或环形图案的蚀刻会相对简单。目前报道的用于磁性隧道结的材料含有Fe、Co、Ni、Pt、Ir、Mn、Mg等多种金属元素，一般由5～10层1nm量级的单层材料（合金或金属氧化物）堆叠而成。
只有一种应用于IC封装。这些气体用于焊盘工艺，电晕机外形图在那里氧化物转化为氟氧化物，允许非活性焊接。清洗蚀刻：例如进行清洗时，工作气体往往是氧气，氧气被加速电子壳化为氧离子和自由基后极具氧化性。工件表面的污染物，如油脂、助焊剂、感光膜、脱模剂、冲床油等，很快就会被氧化成二氧化碳和水，通过真空泵抽走，从而达到清洗工件表面、提高润湿性和附着力的意图。低温电晕处理只涉及数据的外观，不会影响数据主体的性质。
对于药品盒、化妆品盒等高档产品，电晕机外形图一般厂家不敢轻易使用普通胶水盒，因此贴盒成本不会太低。叠层开胶优于UV产品，但叠层法不能用于小盒产品，切齿线会存在工艺问题，增加切板成本等。而常压电晕处理膏体盒后，附着表面的有机污染物被去除，附着表面被清洗，附着材料表面发生各种物理化学变化，导致蚀刻出粗大的晶粒，成为致密的交联层。引入了氧亲水官能团，分别改善了亲水性、粘附性、染色性、生物相容性和电学性能。
氧化性物质和有机化学杂质等污染物的出现会显著降低引线键合的抗拉强度。传统的湿式清洗不能充分去除或无法去除键合区的污染物，电晕机外形图而低温电晕处理可以有效去除键合区的表面污垢，活化表层，可以大大提高引线键合的抗拉强度，增强密封元件的可靠性系数。低温电晕处理器集成电路芯片键合前的处理集成电路芯片与密封基...
