1、氧化硅的亲水性原理（氮化硅和氧化硅的亲水性） 等离子清洗机不是什么脏东西就能洗掉的，氮化硅和氧化硅的亲水性它更有针对性地去除一些物质和材料表面改性处理。从名称上看，清洁不是清洁，而是治疗和反应。从机理上看，等离子体清洗机在电压和磁场作用下，通过工作气体激发的离子与物体表面发生物理化学反应。金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、...
2、铝的亲水性好还是铜（氧化硅和氧化铝的亲水性） 在等离子体环境中，氧化硅和氧化铝的亲水性由于放电产生大量的离子和电子，离子由于电极电势或等离子体自偏压的作用而被加速并向晶圆表面运动， 它们对衬底产生物理轰击并促进了表面的化学反应。这些离子和电子电流被暴露于等离子体中的金属收集，聚集在多晶硅或铝的栅电极，这时金属层的功能就是个“天线&r...
3、二氧化硅附着力促进剂（二氧化硅和油墨附着力） 等离子清洗机常用的工艺气体有氧气(Oxygen, O2)、氩气(氩气，二氧化硅和油墨附着力Ar)、氮气(氮气，N2)、压缩空气(Compressed Air, CDA)、二氧化碳(Carbon,CO2)、氢气(H2)、四氟化碳(CF4)等。由于采用物理+化学处理方式，电离的离子体可以对表面进行物理轰...
