接下来分析了等离子体清洗在ITO领域的应用特点。氧化铟锡(ITO)是一种重要的透明半导体材料。一方面，硅烷做附着力促进剂的浓度它具有稳定的化学性质，良好的透光性和导电性，因此在光电工业中得到广泛的应用。ITO在沉积过程中形成高度简单的n型半导体。在Sn掺杂情况下，费米能级Er在导带底EC以上，载流子浓度高，电阻率低。此外，ITO具有较宽的光学带隙，因此可见光和近红外光的透过率更高。
黄青课题组利用射频驱动氢等离子体处理氧化石墨烯后，附着力促进剂343 乙发现其灭菌能力显著提高。未经处理的氧化石墨烯在0.5毫克/毫升浓度下，未表现出明显的灭菌能力，而处理后的氧化石墨烯在0.02毫克/毫升浓度下，即可引起近90%细菌的灭活。 “搞明白低温等离子体的各种灭菌机制，是我们课题组的重要努力方向。”黄青透露。
如果影响主要是物理的，附着力促进剂343 乙则应降低压力并增加离子能量。如果该作用主要是化学作用，则需要增加一些压力以确保反应气体的浓度。清洗时间还需要保证清洗效率和能耗，金属电极会干扰等离子清洗效率。金属电极的设计极大地阻碍了等离子清洗的效果，主要是金属电极的材料、布局和尺寸。
主要电气控制部分包括:真空泵、射频功率、真空计,计时器,流量计,绿色电源指示灯,蜂鸣器,功率调节器,空按钮(自锁),一个按钮(自锁)气体,气体的第二个按钮(自锁),高频电源按钮(自锁)、真空泵按钮(自锁),总功率旋钮开关。。等离子体发生器可以使操作人员远离对人体有害的溶剂:真空泵低温等离子体发生器的设备绝大多数都是真空泵吸干、泵腔抽吸。一些应用程序是独立的，附着力促进剂343 乙其他应用程序是合并的。
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