真空等离子装置改造的特点是减少（减少）血栓，硅烷化处理工艺流程解决医疗领域的重大问题。通过真空等离子设备的聚合，可以从（有机）硅单体中获得硅烷等薄膜。在血液过滤器和 PP 聚丙烯中使用 SICHO 复合物中空纤维膜涂有活性炭颗粒。将患者动脉中的血液循环引入血液灌流装置，将血液中的毒素和代谢物吸附、净化，然后注入体内。其中，吸附剂主要包括活性炭、酶、抗原、抗体等。
广泛应用于电子工业、化工、光学等领域。一种等离子体沉积的硅化合物，硅烷化处理工艺使用 SIH4 + N2O（或 SI (OC2H4) + O2）产生 SIOXHY。气动压力 1-5 Torr (1 Torr & ASYMP; 133 Pa)，输出为 13.5MHZ。 SIH4+SIH3+N2用于氮化硅沉积，温度300℃，沉积速率180埃/分钟。非晶碳化硅薄膜是通过添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。
等离子体表面改性的特点是减少（减少）血栓，硅烷化处理工艺流程解决医学领域的重大问题。可以通过等离子体聚合从(有机)硅单体获得类硅烷膜。 SiCHO 复合物用于血液过滤器和聚丙烯中空纤维膜以涂覆活性炭颗粒。血液灌流器将病人的动脉循环引入血液灌流器，使血液中的毒素和代谢物在被注入体内之前被吸附净化。用于血液灌流装置的吸附剂包括活性炭、酶、抗原和抗体。碳颗粒应涂有聚合物薄膜，以防止细小的碳颗粒进入血液。
(Low) PP 聚丙烯 为减少血氧肺的粗糙度，硅烷化处理工艺碳颗粒应涂有负压真空等离子装置。同样，它涂有硅烷聚合物薄膜，以降低（低）PP聚丙烯血氧供给器的表面粗糙度。真空等离子器具表面改性的另一个重要用途是促进细胞增殖或蛋白质结合，从而减少血栓形成。氟化聚四氟乙烯涂层和源自有机硅单体的类有机硅涂层均与血液相容。
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