在等离子体表面处理机等离子体蚀刻过程中，氟聚氨酯无光磁漆附着力与含氟聚合物层相比，SiOxFy无机复合膜更难蚀刻，在蚀刻过程中需要较高的离子轰击能量才能去除保护层底部的硅槽，并避免明显的横向蚀刻，可以形成结构更垂直的侧壁。虽然较高的离子轰击能量会进一步提高光刻胶的刻蚀速率，但在非常低的温度下(低于-℃)，光刻胶的刻蚀速率可以降低到几乎可以忽略不计，以抵消轰击能量增加的影响。
等离子表面处理技术对PTFE等聚合物表面性能的 (a)聚四氟乙烯/聚二甲基硅氧烷/Cu、(b)聚四氟乙烯/聚二甲基硅氧烷/SUS430、(c)聚四氟乙烯/聚二甲基硅氧烷/玻璃。经等离子表面处理的聚二甲基硅氧烷可以作为强胶粘剂的替代品，氟聚氨酯无光磁漆附着力将氟聚合物粘附在其他类型的材料上。聚合物具有质量轻、强度高和稳定性好等特点，已成为现代生活中必不可少的材料。然而，大多数聚合物都不能自然粘附在其他材料上。
聚合物的等离子体表面改性可以通过烧蚀、交联、活化和沉积四种方式实现聚合物、氟聚合物等材料的等离子体表面改性。烧蚀是高能粒子轰击聚合物表面导致弱共价键断裂的过程。这一过程只影响暴露在等离子体下的衬底表面最外层分子层，氟聚氨酯无光磁漆附着力与等离子体反应形成气化产物并被抽走。通常，表面的化学污染物通常由弱的C-H键组成，因此等离子体处理可以去除这些污染物。例如，油膜或注塑添加剂等有机物形成均匀、清洁、活性的聚合物表面。
现在，磁漆附着力差的原因对于受控聚变的研究，具有挑战性的问题是如何将这种高温、高密度的等离子体长时间束缚，然后通过光聚变释放出巨大的聚变能量。另...
