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.并且应用范围更广。研究表明，等离子产生条件铜种子层的理想沉积温度低于150°C，以形成厚度为0-1的数纳米尺度的均匀连续的铜膜。为实现铜膜的低温沉积，使用还原性更强的二乙基锌和三甲基铝代替氢气与铜前驱体反应（虽然这种反应体系可以降低沉积温度），锌、铝容易引入。更常用的方法是引入基于热 ALD 的等离子体技术来降低沉积温度。Moon 等人 131 以 Cu 作为铜前驱体。
一、等离子清洗设备对高分子材料表面导电性的提升 提升高分子材料导电性是等离子清洗设备的应用方向之一，物质等离子产生的条件是什么通过等离子清洗设备的接枝聚合处理，可以制备具有较高导电率的PET导电薄膜，也能够利用等离子诱导接枝技术在材料表面制备导电高分子，提升抗静电性能，提高产品利用价值。
如果任由异物进入体内，等离子产生条件即使是无毒的高分子物质，也难免会被排斥，产生不同程度、不同时间的反应。高分子材料能否被生物体所接受，一方面取决于高分子材料本身的化学稳定性，另一方面取决于高分子材料与生物体组织的亲和力。此外，还要求所用材料不会产生不良影响，如炎症、过敏、致畸、癌变等，与组织协调相关的是组织和细胞。
等离子产生条件
