以当今最先进的技术，纪研458附着力促进剂很难满足整个工艺的参数要求。此外，由于同时清洗多个晶圆，自动化清洗站无法避免相互污染的弊端。洗涤器还采用旋转喷雾的方法可用于适合用去离子水清洗的工艺，如晶圆切割、晶圆减薄、晶圆抛光、研磨和CVD，尤其是抛光后的晶圆清洗。单片清洗设备和自动清洗台的应用没有太大区别，主要区别在于清洗方式和精度要求，45NM是一个重要的分界点。
清单：超声波等离子体（工作频率，458附着力促进剂40kHz）一般是物理反应，微波发生器等离子体（工作频率，2.45GHz）一般是反应。射频等离子体（工作频率，13.56 MHz）通常是物理化学的和反应性的。 (2)工作气体的种类对等离子表面的清洗方式也有一定的影响。例如，由惰性气体 Ar2、N2 等激发产生的等离子体主要依赖于冲击。它对材料表面进行清洗，但由活性气体O2、H2等激发产生的等离子体主要用于化学清洗。
避免晶圆之间的相互污染。在 45nm 之前，纪研458附着力促进剂自动清洁站能够满足清洁要求，并且至今仍在使用。 45nm以下工艺节点采用单片清洗设备，满足清洗精度要求。随着未来工艺节点的不断减少，单晶圆清洗设备是当今可预见技术中的主流清洗设备。
2008年，458附着力促进剂随着国产背板技术的突破，国产背板在光伏市场的占有率不断上升，逐步打破了太阳能光伏背板一直被国外垄断的格局。
纪研458附着力促进剂