它不区分解决的对象，耐溶剂底材附着力促进剂可解决差异的板材，不论是金属材料、半导体材料、金属氧化物或是纤维材料都可以用等离子体较好地解决，因而，尤其比较适合不耐热、不耐熔等对处理工艺要求高的基底材料。
利用等离子体可以对精密元件表面的杂质微粒进行有效去除，底材附着力促进剂主要是基于等离子体的宽谱辐照效应和冲击波效应。将脉冲能量有效传递给基底材料以及表面的杂质微粒，由于基底和微粒的热膨胀程度不同从而使两者产生剥离。等离子体处理产生的巨大冲击力，会进一步克服微粒与基底表面的吸附力而实现杂质微粒的完全去除。
在前沿研究领域，底材附着力促进剂宽禁带半导体还处于实验室发展阶段。半导体照明蓝光LED正在使用衬底数据来划分技能路线。对于GaN基半导体，衬底材料仅选用蓝宝石((Al2O3)、SiC、Si、GaN和AlN，后两者还远未实现产业化，我们来评论一下前三种.总的来说，这三种数据各有千秋。
机器设备的表层经等离子清洗后，底材附着力促进剂无需在进行干燥生产，因此可以加快整体工艺生产流水线的生产效率；可使设备员不用受到有害溶剂的伤害；等离子体深入到物体内部的微孔和凹陷处清洗，因而不会过分考虑被清洗物体的形状；也能生产各种材料，特别适合不耐高温、不耐溶剂的材料。上述优势，使等离子体清洗水平倍受关注。。
耐溶剂底材附着力促进剂
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