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转印贴附着力

目前应用于微孔的孔清洗工艺主要是超声波清洗和等离子清洗。超声波清洗主要是利用空化作用来达到清洗的目的。耗时且取决于清洗液的去污性能,转印贴附着力这加剧了废液处理的问题。现阶段常用的设备主要有等离子清洗机,清洗小孔的等离子清洗机,电子行业可以在换低温等离子镀膜、印刷、镀膜、点胶等之前使用的等离子清洗机。加工、表面手机丝印加工、连接器表面清洗、一般行业丝印、转印前处理等。

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在图形转印过程中,uv转印贴附着力差印刷电路板曝光粘贴干膜后,需要开展蚀刻,去除不需要干膜保护的铜区。该工艺是用显影剂将未曝光的干膜溶解,使未曝光干膜覆盖的铜表面在后续的蚀刻工艺中蚀刻。在此显影过程中,由于显影筒喷嘴压力不等,局部未暴露的干膜不能完全溶解,形成残留物。这更可能发生在制造细线,导致短路后,后续蚀刻。等离子体处理能很好地去除干膜残留。

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