此外，铝阳极氧化附着力检测真空等离子清洗系统底盘还可用作等离子室、控制电子、13.56MHZ射频发生器和自动匹配网络（仅限系统外的真空泵）的集成安全外壳。通过互锁门或可拆卸面板提供维护通道。采用优质氧化铝阳极材料和耐用陶瓷材料制成的真空等离子清洗系统。等离子室可配置6或8功率电极等，以适应各种晶圆尺寸、元件、IC封装等元件。
真空等离子清洗系统采用优质氧化铝阳极材料和陶瓷材料制成，铝阳极氧化后附着力耐久性极佳。可以配置等离子室&ldquo；6&rdquo；或者&ldquo；8&rdquo；有更多的功率电极，以适应各种各样的晶圆尺寸，零件，IC封装，和其他组件。高性能等离子体刻蚀技术用于故障分析或MEM和LED器件的制作。真空等离子体清洗系统适用于各种工艺气体，包括Ar、O2、H2/成型气、He、CF4和SF6。
此外，铝阳极氧化附着力检测真空等离子清洗系统底盘还可作为集成的安全外壳使用，用于容纳等离子体室、控制电子设备、13.56MHz射频发生器和自动匹配网络(系统外仅有真空泵)。透过可互相锁定的门或可拆卸的面板提供维持通道。采用优质的氧化铝阳极材料和陶瓷材料制成的真空等离子清洗系统，具有优异的耐久性。
采用优质氧化铝阳极材料和陶瓷材料制成的真空等离子清洗系统具有极佳的耐用性。等离子室 室可配置“6”或“8”或更高功率电极，铝阳极氧化后附着力以适应各种晶圆尺寸、组件、IC 封装和其他组件。用于故障分析或制造 MEM 和 LED 器件的高性能等离子蚀刻和真空等离子清洗系统适用于各种工艺气体，例如 Ar、O2、H2 / 合成气体、He、CF4、SF6。
铝阳极氧化附着力检...
