刻蚀是移除晶圆外表资料，销售常压等离子清洗机哪家好使其到达集成电路设计要求的一种工艺进程，现在芯片制作工艺中广泛运用干法刻蚀工艺。刻蚀机销售额约占晶圆制作环节的 24%，是晶圆制作中的要害环节。 公司产品主要为刻蚀用单晶硅资料，用于加工成刻蚀机上的硅电极（刻蚀用单晶硅部件）。由于硅电极在硅片氧化膜刻蚀等加工工艺进程会被逐步腐蚀并变薄，当硅电极厚度减少到必定程度后，需替换新的硅电极，因而硅电极是晶圆制作刻蚀工艺的中心耗材。
并且，销售常压等离子清洗机在2008年前后两个阶段中，市场份额很高的清洁设备走势均与半导体设备销售额走势保持一致，体现出清洗设备需求的稳定性；并且在单晶圆清洗设备主导市场后，其占总体销售额的比例明(显)提(升)，体现出单晶圆清洗设备和清洗工艺在半导体产业链中的地位提(升)。这一市场份额变迁是工艺节点不断缩小的必然性结果。。
从全球市场销售份额来看，销售常压等离子清洗机哪家好单晶圆清洗设备在2008年之后超过自动清洗台成为主要的清洗设备，而这一年正是行业引入45nm节点的时间。根据ITRS，2007年致2008年是45nm工艺节点量产的开始。松下、英特尔、IBM、三星等纷纷于此时段开始量产45nm。2008年底，中芯国(际)获得了IBM批量生产45纳(米)工艺的授(权)，成为中国首(家)向45nm迈进的中国半导体公司。
