表面等离子蚀刻机的等离子脱胶采用高性能组件和软件，拉开法测附着力总是脱胶可轻松控制工艺参数，其工艺监控和数据采集软件可实现严格的质量控制。这种技术已经成功。适用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电器件、电子器件、MOEMS、生物器件、LED等领域。由上可知，在处理硅片之前，表面上残留有大量的光刻胶。表面等离子蚀刻等离子去除剂后，表面光刻胶被完全去除，效果非常好。。
管道节流阀：在常压等离子脱胶机中，拉开法测附着力总是脱胶经常使用管道节流阀，通过压力调节针阀调节排气口的大小，以提供压力和流量控制。大多数管道节流阀是快塞，体积小。常压清洗部分通过管道输送至气体，因为常压清洗机使用的工艺气体为净化后的洁净压缩空气，所需的气动稳定性远低于真空等离子。直接安装管路节流阀路径实现空气压力和流量控制。同样，如果您需要实时监测压力，您可以在您的气路中添加压力表，并且有报警输出压力表和压力开关等装置。
等离子等离子设备分类：等离子设备分类：①喷射式AP等离子处理设备系列②自动X/Y轴AP等离子处理系统③真空等离子设备系列⑤AP宽幅等离子处理设备系列④大气辉光等离子清洗机系列真空等离子设备/大气等离子处理设备包括低温等离子处理设备、等离子处理设备、等离子处理设备、低温等...
