氧气(Oxygen,O2):清洗方式:物理+化学氮气(Nitrogen,N2):清洗方式:物理+化学二氧化碳(Carbon,CO2):清洗方式:物理+化学氩气(Argon,Ar):清洗方式:物理压缩空气(Compressed Air,CDA):清洗方式:物理+化学使用等离子清洗,go亲水性可以使得清洗效率获得极大的提高。
但使用手机的人都知道,go亲水性手机使用一段时间后,其外壳容易掉漆,甚至Logo也变得模糊不清,严重影响手机外观形象。应用于电子通信行业的等离子清洗机为了找到解决这些问题的方法,厂商们纷纷使用化学物质对手机塑料外壳进行处理,印刷粘接效果得到提升,但这是以降低手机外壳硬度为代价的。为了找到更好的解决方案,等离子清洗机脱颖而出。
等离子清洗机等离子设备等离子体蚀刻对GOI/TDDB的影响:栅氧化层完整性(Gate Oxide Integrity,go亲水性GOI)一般指对栅极氧化硅电容在恒定电压下的经时击穿(TDDB)测试。随着MOS电路尺寸的不断缩小,栅氧化层越来越薄,而电源电压的降低并不能和栅氧减薄同步,这使得栅氧化层需要工作在较高的电场强度下。栅氧化层的击穿是影响MOS器件可靠性的重要模式。
2、等离子表面处理机需要特殊气体吗?答:在线处理过程中除压缩空气外,降低GO亲水性不需要其他特殊气体。与气体气氛不...