并去除颗粒。自动化工作站，附着力的反义词也称为罐式自动清洗机，是指在化学浴中同时清洗多个晶圆的设备。以当今最先进的技术，很难满足整个工艺的参数要求。此外，由于同时清洗多个晶圆，自动化清洗站无法避免相互污染的弊端。洗涤器也是旋转喷雾器可用于适合用去离子水清洗的工艺，如晶圆切割、晶圆减薄、晶圆抛光、研磨、CVD等环节。特别是可用于晶片抛光后的清洗，起到了重要作用。晶圆清洗设备和自动清洗台没有太大区别。
电子工业清洗是一个很广的概念,包括任何与去除污染物有关的工艺,但针对不同的对象,清洗的方法有很大的区别。目前电子工业大量应用的物理化学清洗方法，驻坡时下滑力和附着力的区别从运行方式来看，大致可分为湿式清洗和干式清洗两种。 湿法清洗目前已广泛应用于电子工业生产。清洗通常依赖于物理和化学(溶剂)的作用。
这也是与真空等离子清洗最大的区别之一。在真空等离子清洗机的运行过程中，驻坡时下滑力和附着力的区别只要材料在型腔的外露部分，就可以在任一侧或角落进行清洗，因此型腔内的离子不会被定向。二、气体的使用：常压等离子操作只需要连接压缩空气即可。当然，如果你想做更好的工作，你可以直接连接氮气。真空等离子清洗机有多种气体选择，可以相应地选择不同的气体，大大提高了对表面氧化物和纳米级微生物的去除。