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CF4是原始气体,混合后产生O、F等离子。与丙烯酸、PI、FR4、玻璃纤维等发生反应,达到去污的目的。在第三阶段,O2 用作原始气体,产生的等离子体和反应残渣清洁孔壁。在等离子清洗过程中,除等离子化学反应外,等离子还与材料表面发生物理反应。等离子体粒子敲除材料表面上的原子或附着在材料表面上的原子。这有利于清洁和蚀刻反应。图4显示了有和没有等离子清洗的嵌入孔(孔径:0.15MM)的电镀金属的横截面图。

事实上,等离子清洗设备的时效性非常复杂,主要是由于材料表面的动态重组。它受处理气体的种类、处理参数、化学成分、被处理材料的晶体结构以及被处理材料的储存环境等因素的影响。 1、用等离子清洗装置处理后,在材料表面引入活性基团,提高了材料的表面能,但活性基团并不稳定。随着分子链的自由旋转或移动,活性基团逐渐重新定向到相邻的分子或基团,甚至在材料内部,系统趋于稳定,其表面活性随着时间的推移迅速增加。

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