2、石英玻璃等离子体化学气相沉积法生产石英玻璃等离子体化学气相沉积法是一种以高频等离子体为热源，等离子体化学气相沉积采用化学气相沉积法合成高纯度石英玻璃的实验装置。对液滴生长和凝结的动力学分析表明，等离子体增强化学气相沉积过程中的颗粒沉积过程分为三个阶段：化学反应、成核和粘附沉积。合成的石英玻璃具有优异的光谱特性，羟基低，紫外透过率高，波长188～3200NM的透光率超过84%。可满足高科技领域对宽带透光材料的需求。
等离子清洗剂在沉积过程中的应用可分为四个步骤。 (1) 电子与反应气体碰撞产生离子和自由基； (2) 活性成分从等离子体传输到基材表面； (3) 活性成分吸附或物理化学作用于基材表面。 (4)活性成分或反应产物成为沉积膜的组分。在高密度等离子体化学气相沉积中，等离子体化学气相沉积气相沉积和蚀刻通常同时进行。在这个过程中存在三种主要机制：等离子体离子辅助沉积、氩离子溅射和溅射材料的再沉积。
4、低温等离子化学气相沉积机的表面气相沉积功能等离子化学气相沉积是利用等离子体活化反应气体，等离子体化学气相沉积原理图促进基板表面或表面附近空间发生化学反应，形成固体薄膜的技术 等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场的作用下，源气体电离形成等离子体，以低温等离子体为能源，适量的反应气体利用等离子体放电，活化反应气体，实现化学放电技术。
这两种功能为提高涂层的附着力、降低沉积温度和提高反应速率创造了有利条件。等离子体化学气相沉积技术可分为直流辉光放电、高频放电、微波等离子体放电等等离子体能源。频率越高，等离子体化学气相沉积等离子化学气相沉积的效果越明显，形成化合物的温度越低。 PCVD工艺设备由沉积室、反应物供应系统、放电电源、真空系统和检测系统组成。气源应使用气体净化器去除水分和其他杂质。所需的流速通过调节装置获得，并与源材料一起发送到沉积室。
等离子体化学气相沉积
我可以做它。没有油漆剥落。
等离子体化学气相沉积
