一、等离子体设备概述蚀刻通常称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，附着力促进剂阻燃蚀刻效果是利用典型的蒸气搭配产生具有明显蚀刻性的气体等离子体与物体表面的材料基底发生反应，产生CO、CO2、水等其他蒸气，从而完成蚀刻目的。用于完成蚀刻的蒸气大多是含氟蒸气，C4F是应用最广泛的一种。四氟化碳C4F是无色无味的蒸气，无毒阻燃，但浓度较高时有麻痹作用，所以工业应用中储存的容器是专用高压气瓶，使用的减压阀也是专用减压阀。
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为适应PCB向细线、高频多层化方向发展，附着力促进剂和树脂相容吗上游覆铜板材料正从单一型向系列化发展，新材料、新工艺、新覆铜板技术正成为不可回避的趋势。 .相应地，FR-4产品的性能也在逐步提高。 FR-4覆铜层压板的某些性能已经不能完全满足PCB的制造要求。 FR-4 正逐渐转向高阻燃性和高尺寸稳定性。 .. ，低介电常数，环保。
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目前，工业模具上普遍采用的气体渗碳和真空渗碳工艺成熟，质量稳定，能较好地满足工业模具的需要。与传统的渗碳相比，离子渗碳具有以下优点：渗碳效率高，表面质量好，渗层分布均匀，变形小，环境污染小，过程易实现自动化控制，深孔盲孔也能处理等。在模具行业中，离子渗碳技术在冲模和塑料模中应用较多。目前，在表面硬化中，有80%以上是渗碳处理。因此，离子渗碳有着广阔的发展前景。
真空等离子体处理系统的急停不能复位或已被按压，需开启急停开关：这时要检查急停是否被压住，如果没有，要检查急停线。 专注等离子技术研发制造，如果您对设备想要有更详细的了解或对设备使用有疑问，请点击 在线客服， 恭候您的来电！。
等离子体清洗是指高度活化的等离子体在电场的作用下发生定向移动，与孔壁的钻污发生气固化学反应，同时生成的气体产物和部分未发生反应的粒子被抽气泵排出。
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