低温等离子清洗设备的主要部件组成及其结构示意图

典型的低温等离子清洗设备由五个部分组成分别有真空腔、电极组件、等离子体发生器、真空系统和控制系统。低温等离子清洗设备为一个独立的立式机柜结构形式,设备的所有部分除了处理气体外置均集成在机柜中，等离子清洗设备主要组成部件及其结构如下图1所示。
图一 低温等离子清洗设备总体结构示意图
1触摸屏 2控制按钮 3等离子体发生器 4机柜 5真空腔体 6真空计 7电极板 8馈电组件 9真空电磁阀 10流量计 11电极板架 12放气阀 13真空泵
真空腔体
需等离子体处理的材料放置于真空腔体中,真空腔体为一方形结构,其容积大小取决于需一次处理的产品数量的多少,当然,真空腔体的大小也不是任意确定的,其容积越大,则真空泵的功率就越大,甚至需要采用真空泵机组才能满足真空腔体产生低温等离子体所需要的真空度。因此,真空腔体的大小是根据一次处理的产品数量和真空泵的功率和抽气速率综合考虑设计的。真空腔体置于机柜的右上方或左上方,以方便产品的取放。
电极组件
在真空腔体中,设计有多组平行电极板,可一次性容纳多个产品同时进行等离子体处理。平行电极板的多少取决于真空腔的大小,等离子体发生器分布在每组平行电极板上的能量相等,使电极间产生稳定的电流。
等离子体发生器
等离子体发生器信号加在电极上便开始激发真空腔体内的处理气体产生等离子体,处理用气体等离子体发生器能量被电离。常用等离子体发生器工作频率从千赫兹到兆赫兹。其中射频等离子体发生器的频率为13.56MHz,中频等离子体发生器的频率为40KHz。
真空系统
低温等离子清洗设备中真空系统是一个关键部分。真空系统提供保持等离子体产生时一定的真空度的处理气体以一定量进入真空腔体,一旦真空腔体达到产生等离子体所要求的真空度,等离子体发生器信号加到电极上便产生等离子体。处理气体通过真空系统中的流量控制器被导入真空腔体,由流量控制器控制每种处理气体精确流入保证低温等离子体处理材料的要求。
控制系统
低温等离子清洗设备的真空系统和等离子体发生器的运行均由控制系统控制。控制系统由作为核心,通过触摸屏作为人机接口,在触摸屏上进行手动操作和自动操作。在触摸屏上控制真空泵、等离子体发生器、进气阀、排气阀、气体流量计的开启,真空度的设置、处理时间、处理气体的选择和流量大小、等离子体发生器功率等都由控制系统进行控制,整个控制系统在自动状态下可适时进行动态控制。24356