由于被激发的自由基具有高能量，二氧化硅膜的附着力新的自由基很容易形成，新形成的自由基与表面分子结合后，变成不稳定的高能态，发生分解反应，变成小分子后，很容易被唤醒，产生新的自由基。这个反应过程可能继续，最后分解成水和二氧化碳。简单的一类分子。其他情况下，自由基与物体表面分子结合时，会释放出大量的结合能，是引发新的表面反应的驱动力，从而将发生化学反应的物体表面的物质去除。
Zhou等人选择了介质阻挡放电的形式来实现二氧化碳的重组CH4反应。当注入能量为87kW.h/(N∙m3)时，二氧化硅膜的附着力甲烷转化率为64%，二氧化碳转化率为54%。加仑等、品昊等分别研究了DBD放电等离子体清扫器作用下CH4和二氧化碳的重组反应，结果表明，重组反应的主要产物是合成气，只生成少量的碳氢化合物(主要是C2H6)。而在DBD放电等离子体作用下，CH4和CO2复合反应的反应物转化率较低，但反应能耗较高。
其次，二氧化硅膜的附着力CH4的完全氧化产物为二氧化碳，部分氧化产物为C2烃，中间产物为CHx。显然，这两个反应是相互可逆的。如果CH4与二氧化碳共活化，即二氧化碳的存在有利于CH4的部分氧化，而CH4的存在则会抑制二氧化碳的深度还原。综合作用有利于生成C2烃类。
自由基如原子团与物体表面的反应自由基在等离子体中起着重要作用，二氧化硅膜的附着力因为这些自由基是电中性的，寿命长，并且在等离子体中比离子更丰富。自由基的作用主要表现在化学反应过程中能量传递的“活化”。被激发的自由基具有很高的能量，因此它们与表面分子结合时往往会形成新的自由基。自由基也处于不稳定的高能状态，发生分解反应，变成小分子，同时产生新的自由基。这个反应过程继续进行，最终可能分解成水、二氧化碳等。
二氧化硅膜的附着力
由于等离子体在电场下被加速，它在电场的作用下高速运动，并与物体表面发生物理碰撞。等离子体的能量足以去除各种污染物和氧气。离子可以在体外将有机污染物氧化成二氧化碳和水蒸气。等离子清洗不需要其他原料，除非空气能满足要求，使用方便，干净。同时，等离子不仅可以清洗，而且比超声波清洗有很多优点。表面，但更重要的是，可以提高表面活性。等离子体与物体表面之间的化学反应产生活性化学基团。
在等离子体化学反应中，起化学作用的粒子主要是阳离子和自由基粒子。自由基在化学反应过程中的能量转移活化（化学）作用，被激发的自由基具有更高的能量，与表面分子结合时，更容易形成新的自由基。新形成的自由基也处于不稳定的高能状态，可能会引起分解反应，生成新的自由基，同时变成小分子。该反应过程继续进行并且可以分解成水和二氧化碳。一个简单的分子。
如果在接近大气压的高压下放电，电子、离子和中性粒子激烈碰撞后会充分交换动能，从而使等离子体达到热平衡。
等离子体设备表面改性技术的特点是:它对原材料表面的影响只有几百埃深，不会对原材料的性质产生干扰，可以处理各种形状的表面;它具有很强的杀菌作用。因此等离子体设备表面处理技术是生物医用原材料技术。。等离子体发生器是一种含有大量电子的高能聚合态。一个离子。一个兴奋atom.Molecules。活跃的粒子，比如光子和自由基。用等离子体发生器处理材料可以引起材料表面的物理变化(如蚀刻)。溅射。注入。
二氧化硅与金之间的附着力
等离子体清洗在微电子封装领域有着广泛的应用前景，二氧化硅膜的附着力等离子体清洗技术的成功应用依赖于工艺参数的优化，包括过程压力、等离子激发频率和功率、时间和工艺气体类型、反应腔室和电极的配置以及待清洗工件放置位置等。
适合批量处理，二氧化硅膜的附着力环保。要求不高。。
