等离子体表面清洗设备的应用；1.清洗光学器件、电子元件，盖玻片亲水性清洗光学镜片、电子显微镜等各种镜片、载玻片，去除光学元件、半导体元件表面的光刻胶物质，清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体、宝石；2.口腔领域：对有机硅冲压材料和钛牙移植物进行预处理，增强其润湿性和相容性；3.医疗领域：假肢移植物表面预处理，增强浸润、粘附、相容性，医疗器械消毒灭菌；4.提高用于粘接光学元件、光纤、生物医用材料、航空航天材料等的胶水的附着力；5、去除金属材料表面的氧化物；6.活化玻璃、塑料、陶瓷、高聚物等材料表面，增强其表面附着力、润湿性和相容性；7.高分子材料的表面改性。
它可以对金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等各种几何形状、不同表面粗糙度的物体进行表面改性，盖玻片亲水性去除样品表面的有机污染物。真空等离子体清洗设备可以清洗半导体元件、光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基板、终端设备等，同时还可以清洗光学镜片，清洗各种镜片和载玻片，如光学镜片、电镜载玻片等，同时真空等离子体清洗设备还可以去除光学元件和半导体元件表面的氧化物、光刻胶，以及金属材料表面的氧化物。
圆形盖玻片用作基底材料，盖玻片亲水性硝酸银溶液或 AgNPs 悬浮液用作可喷涂添加剂。为保证涂层的抗菌效果，采用体积比为1：1的异丙醇和水的混合溶液制备硝酸银。使用阀门、蠕动泵和加压气体（通常是氮气）将该溶液直接喷射到等离子体上。样品台可以在 x 和 y 方向移动。 UV-Vis光谱、粒度测量和TEM证实，该方法可用于制备具有抗菌活性的含银层，对革兰氏阴性大肠杆菌有很强的抗菌作用。
随着皮革工业的发展，羟基化后玻片亲水性的影响国内外对皮革及皮革制品提出了更高、更新的要求，推动了皮革技术的不断提高。如何提高印染率、降低能耗和环境污染已成为皮革染整行业亟待解决的问题之一。通过对皮革染色机理的分析，将不同的活性基团如羰基、羧基、羟基和胺基引入胶原纤维中进行氧化、开裂和腐蚀。结果表明:染色率高，皮革颜色均匀饱满，染色皮革的干、湿摩擦牢度、水洗牢度和溶剂牢度均优于常规染色。
玻片亲水性
结果表明，等离子体处理可以增加纤维表面粗糙度，增加纤维染色深度，改善尼龙纤维的染色性能，对纤维强度无明显影响。大气等离子清洗机技术在纺织品中的应用日益广泛，可用于织物上浆、退浆、麻脱胶、羊毛防毡、合成纤维亲水处理、高性能纤维的粘结增强等。大气大气等离子清洗可以有效改善尼龙纤维和聚合物的表面性能，这主要是因为氧低压或大气等离子可以将氧元素以羟基和羧基的形式引入纤维表面，从而提高其亲水性。
这种氧化反应产生的官能团在增加表面能和加强与树脂基体的化学键合方面非常有效。其中包括羰基(-C=O-)。羧基(HOOC-)、氢过氧化物（HOO-）和羟基（HO-）基团。等离子体表面处理对材料表面的影响主要表现在表面清洁、去除有机和无机污染物、表面活化、提高材料表面能和消除静电三个方面。
除了气体的压力之外，等离子体射流的长度受所施加的功率的影响，其可在60-500W的范围内调节，不需要额外的冷却。浓缩的HMDSO用作前驱体。前驱体在管状的等离子体中反应，在衬底上沉积SiOx膜。圆形盖玻片用作基底材料，硝酸银溶液或AgNPs悬浮液用作可喷雾添加剂。为了保证涂层的抗菌作用，硝酸银在异丙醇和水体积比为1：1的混合溶液中制备。用阀门、蠕动泵和加压气体（通常为氮气）将该溶液直接喷入等离子体中。
浓缩的HMDSO被用作前驱体。前驱体在管状等离子体中发生反应，在衬底上沉积SiOx薄膜。以圆盖玻璃为基材，硝酸银溶液或银纳米粒子悬浮液为喷涂添加剂。为保证涂层的抗菌效果，用异丙醇与水的体积比为1:1的混合物制备了硝酸银。溶液通过阀门、蠕动泵和加压气体(通常是氮气)直接喷射到等离子体中。样品架可在x、Y方向移动。
羟基化后玻片亲水性的影响
特别是偏压刻蚀后，盖玻片亲水性玻璃的透光率从91%提高到94.4%，玻璃表面的亲水性增强，接触角θ从47.2°变为7.4°，自清洁性能得到改善。对于太阳能电池上的盖玻片，其透过率直接影响太阳能电池的发电效率，但玻璃表面有反射，导致光能损失。
