ICP电晕在工业上的另一个主要应用是电晕干法刻蚀，曲面电晕处理机操作规程尤其是反应离子刻蚀(RIE)ICP电晕干法刻蚀可以克服湿法刻蚀的严重钻孔效应和各向同性，具有选择性、各向异性等特点ICP电晕还广泛应用于辅助磁控溅射和电子束蒸发过程中，作为离子源改善反应条件，降低反应温度。电晕。低温电晕法处理环保工程工业废水低温电晕处理工业废水有三种途径。
因此，曲面电晕处理机处理电晕作用于固体表面后，固体表面原有的化学键可以被打破，电晕中的自由基与这些键形成网络交联结构，极大地激活了表面活性。（3）新官能团的形成--化学作用如果在放电气体中引入反应性气体，活化材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，可以明显提高材料的表面活性。电晕！。电晕就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理。
C.电子与物体表面的相互作用对物体表面的撞击一方面可以促进吸附在物体表面的气体分子分解或吸附；另一方面，曲面电晕处理机处理大量的电子撞击有利于引发化学反应。由于电子的质量极小，它们的运动速度比离子快得多。进行电晕处理时，电子比离子更早到达物体表面，表面带负电荷，有利于引发进一步反应。离子与物体表面的相互作用通常指带正电荷的阳离子的作用。阳离子倾向于加速并冲向带负电的表面。
当电晕能量密度为860kJ/mol时，曲面电晕处理机处理C2H6的转化率为23.2%，C2H4和C2H2的总收率为11.6%。一般认为，流动电晕反应器中高能电子的密度和平均能量主要由反应气体流量一定时的电晕能量密度决定。
曲面电晕处理机处理
整个清洗过程可在几分钟内完成，因此具有收率高的特点；电晕清洗需要控制真空度在Pa左右，这种清洗条件很容易达到。
由于Ni-Nel的偏差&中尉； 但由于惯性，电子并没有停在平衡位置，而是冲过平衡位置，反向位移。这反过来又导致相反方向的电荷分离，产生反向返回电场，在那里电子再次被拉回并冲过平衡位置。重复地，电子在平衡位置附近集体来回振荡。由于离子质量大，对电场的变化响应较慢，因此可视为静止不动，仍充当均匀正电荷返回。当这种中性在电晕中被打破时的空间电荷振荡。因为一开始发现的人是朗缪尔，所以也被称为“朗缪尔振荡”。 根据反应机理，电晕清洗一般包括：无机气体被激发成电晕态；气相物质吸附在固体表面；吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子分解为气相；产物分子被分离成气相。电晕清洗设备适用于清洗、活化、蚀刻、沉积、接枝、聚合等多种材料表面改性处理；电晕活性高、效率高，不易对电子产品造成离子损伤。 曲面电晕处理机操作规程
