在等离子体中，电晕处理最佳温度不同粒子的温度实际上是不同的，温度与粒子的动能即运动的速度和质量有关，等离子体中离子的温度用Ti表示，电子的温度用Te表示，原子、分子或原子团等中性粒子的温度用Tn表示。当Te远高于Ti和Tn，即低压体气体时，此时气体的压力只有几百帕斯卡。当采用直流电压或高频电压作为电场时，由于电子的质量很小，容易在电池中加速，因此可以获得平均高达几个电子伏特的高能量。
若将喷涂产物在蒸汽压为O.15 MPa、温度为125℃的水蒸气环境中沐浴6小时，电晕处理后的交联膜有竖道可使大部分非晶HA相转变为晶相，喷涂过程中产生的其他分解产物也可恢复为晶态HA相，从而提高涂层的稳定性。结晶羟基磷灰石涂层具有良好的稳定性，但与非结晶羟基磷灰石涂层相比，结晶羟基磷灰石涂层具有良好的稳定性由于固定形貌羟基磷灰石涂层表面密度的提高。同时也损害了其成骨诱导作用。
温度轴单位eV（电子伏特）它是等离子体场中常用的温度单位，电晕处理最佳温度1eV=11600K。等离子体中一般有三种粒子：电子、正离子和中性粒子（包括原子或分子、原子团等不带电粒子）。设它们分别具有ne，ni和nn的密度。由于它们是准电中性的，电离前气体分子的密度为ne≈nn。因此，我们定义电离度β=ne/(ne+nn)来衡量等离子体的电离程度。
它可以对金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等各种几何形状、不同表面粗糙度的物体进行表面改性，电晕处理最佳温度去除样品表面的有机污染物。真空等离子体清洗设备可以清洗半导体元件、光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基板、终端设备等，同时还可以清洗光学镜片，清洗各种镜片和载玻片，如光学镜片、电镜载玻片等，同时真空等离子体清洗设备还可以去除光学元件和半导体元件表面的氧化物、光刻胶，以及金属材料表面的氧化物。
电晕处理后的交联膜有竖道
此外，商品纤维材料表面会有一层有机涂层和灰尘，主要来自纤维制备、上浆、运输和储存等过程，这些都会影响复合材料的界面结合性能。
低温等离子体处理器清洗是利用等离子体中各种高能物质的活化作用，将粘附在物体表面的污渍彻底分离。低温等离子体处理器清洗的一个特点是，物体表面经过等离子体处理后，往往会产生很多新的活性基因，激活物体表面，改变其性能，大大提高物体表面的润湿性和附着力，这对很多材料来说非常重要。因此，低温等离子体处理器的清洗和许多有机溶剂的湿式清洗是无法相比的。
通过对纤维表面形貌的观察，发现CF4气体改变了纤维的润湿性，使纤维与水的接触角从0°变化；上升到136℃；这表明氟原子已经注入到纤维表面。研究了低温等离子体对丝状织物各项性能的影响。发现低温等离子体处理后织物的毛细效应和上染率均有所提高。。低温等离子体撞击材料表面有两种不同的反应，不仅产生物理冲击，还会对材料表面产生化学腐蚀。材料的表面改性是通过切割或激活材料表面的旧化学键来实现的。
等离子体处理器在印版除渣及微孔清洗中的作用；由于HDI电路板内径较小，传统的化学清洗技术无法满足孔缝结构的清洗要求，液体表面张力使得药液难以渗透到孔内，尤其是激光进入微孔缝时，可靠性较低。目前微埋孔内径清洗主要有超声波清洗和等离子处理器清洗。超声波清洗主要是根据气泡效应实现清洗目的，属于湿法处理。清洗时间长且取决于清洗液的去污性能，增加了废液处理的难度。
电晕处理最佳温度
