复合材料成型过程中应使用脱模剂，电晕处理的应用范围以保证固化成型后能与模具有效分离。但脱模剂的使用不可避免地会在复合材料薄膜表面留下多余的脱模剂，造成待涂覆表面污染，产生弱界面层，使涂覆后的涂层容易脱落。。等离子体清洗技术自问世以来，随着电子等工业的快速发展，其应用逐渐增多，用于等离子体清洗、活化、改性和蚀刻以提高附着力等。目前，等离子体清洗技术已广泛应用于半导体和光电行业，包括集成电路、半导体、医疗等。
阴极溅射同时进行，薄膜电晕处理的应用要点为沉积的薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此，整个沉积过程明显不同于单独的热活化过程。它们之间的相互作用为提高涂层附着力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。根据等离子体源的类型，等离子体化学气相沉积技术可分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时，等离子体对CVD反应的增强作用更明显，化合物形成的温度降低。
科学家预测，电晕处理的应用21世纪低温等离子体科学技术将出现突破性进展，在半导体工业、聚合物薄膜、生命科学、等离子体合成、等离子体三废处理等领域，低温等离子体清洗机、等离子体处理器、等离子体表面处理设备与传统工艺相比将发生革命性变化。
等离子体清洗技术的关键是低温等离子体的应用，电晕处理的应用范围低温等离子体的应用主要依赖于高温、高频、高能量等外界条件。它是一种电中性的、高能的、完全或部分电离的气态物质。低温等离子体的能量约为几十电子伏特，其中包含的离子、电子、自由基、紫外线等活性粒子很容易与固体表面的污染物分子发生反应，使其脱离，从而达到清洗效果。同时，由于低温等离子体的能量远低于高能射线，该技术只触及数据表面，对数据矩阵的功能没有影响。
薄膜电晕处理的应用要点
等离子体处理器在医疗行业中的应用；在化学相容性或化学键合过程中，强界面力可以增强两表面之间的粘附力。高分子聚合物具有低能或中能表面能，很难在其表面粘合或包覆。氧等离子体处理使聚丙烯的表面张力由29dyn/cm提高到72dyn/cm。其他材料的表面可通过活化处理进行硝化、氨化或氟化处理。应用等离子体表面改性可形成胺、羟基、羰基、羧基等官能团，提高界面附着力。
可以说，等离子清洗技术更适合汽车工业的发展。预处理工艺很精细，用氟利昂清洗不仅浪费资源，而且成本很高。等离子体表面处理技术的应用避免了化学使用的弊端，能更好地适应现代医学科技的行业标准。光电子设备和一些光电产品对清洗技术要求很高，等离子体表面处理技术在该领域应用广泛。等离子清洗机表面处理技术可应用于工业领域，对物体的处理不仅可以是清洗，还可以是腐蚀、灰化、表面活化和涂层。
单电极因其离子和电子能量高，在射频低温等离子体中处理范围广，可设计成多种形状，特别适用于各种二维和三维高分子材料的表面改性。经低温等离子体表面处理后，材料表面会发生许多物理和化学变化，或刻蚀（肉眼很难看到），或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，分别提高亲水性、粘附性、亲和性、生物相容性和电学性能。
采用不同功率的等离子体处理ITO，大大提高了ITO的功函数，优化了器件的性能。有机电致发光器件（OLEDs）以其自发光、高亮度、大视角等优点在显示和照明领域备受青睐，具有巨大的应用前景。铟锡氧化物(ITO)导电薄膜因其良好的导电性和可见光范围内的高透过率而广泛应用于光电领域，在有机电致发光领域常被用作OLED的阳极材料。
薄膜电晕处理的应用要点
如何用人工方法制造等离子体除了现有的等离子体外，薄膜电晕处理的应用要点在一定范围内还可以用人工方法制造等离子体。1927年，当汞蒸气在高压电场中放电时，等离子体首次被研究人员发现。后来的发现是，低压下的气态物质可以通过各种形式转化为等离子体，如电弧放电、辉光放电、激光、火焰或冲击波等。
