等离子清洗机使用的气体，工艺参考配方：常用氧气+氩气，根据清洗材质的不同，可分别使用氧气、氩气、氢气、氮气、四氟化碳等气体，不同类型的气体在清洗过程中的反应机理是不同的，活泼气体的等离子体具有更强的化学反应活性，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。
氧气（Oxygen,O2）：清洗方式：物理+化学
氮气（Nitrogen,N2）：清洗方式：物理+化学
二氧化碳（Carbon,CO2）：清洗方式：物理+化学
氩气（Argon,Ar）：清洗方式：物理
压缩空气（Compressed Air,CDA）：清洗方式：物理+化学
使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点；
容易采用数控技术，自动化程度高;具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高;
正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证;由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。
等离子处理过程为一种干制程，相对于湿制程来说，其具有诸多的优势，这是等离子体本身特征所决定了。由高压电离出的总体显电中性的等离子体具有很高的活性，能够与材料表面原子进行不断的反应， 使表面物质不断激发成气态物质挥发出去，达到清洗的目的。其在材料表面处理过程中具有很好的实用性，是一种干净、环保、高效的清洗方法。