等离子清洗设备原理

等离子清洗设备一般包括反应腔室，电控系统，射频电源，真空系统以及操作系统等，射频等离子清洗设备的原理是通过真空系将真空腔体袖至10-30PA左右的真空度，然后向真空腔体中通入氩气或者氧气等反应气体，当真空度约为10-100PA时开启巧频电源，调节射频匹配电源，起辉形成等离子体。在真空状态下，因为气压较小，分子间的间距变大，从而使得分子间的作用为变小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、氩气等工艺气体震荡成具有高能量或者高反应活性的离子，与有机污染物或者微颗粒反应、碰撞形成挥发性物质，挥发性物质由工作气流从真空系排出去从而达到清洗的目的。
等离子清洗设备原理
等离子体主要是通过气体放电产生，应用于材料处理通常为低温等离子体，能量只有几十电子伏特。其作用强度高、穿透力小。具有工艺简单、高效节能、处理效果好、环境污染小等优点，作用于材料表面会使其产生一系列的物理、化学变化。等离子清洗设备的清洗原理则是通过等离子体中所包含的具有一定反应活性或高能量的粒子，与材料表面的有机污染物或微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质。然后将这些挥发性物质清除出去。从而达到表面清洁的目的。
等离子体清洗的反应类型还与活化气体的种类有关，一类为惰性气体被激发产生的等离子体(如Ar2、N2等)；另一类为反应性气体被激发产生的等离子体(如02、H2等)。氩气等离子体清洗是典型的等离子体物理清洗工艺。主要通过离子轰击使表面清洁而不和材料表面发生化学反应。氧气等离子体清洗是典型的等离子体化学清洗工艺．主要通过等离子体所产生的活泼氧自由基与材料表面的碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳和水等易挥发物．从而达到去除污染物的效果。
等离子清洗设备清洗原理
等离子体物理清洗工艺所产生的效果主要是材料表面的粗糙度增加。有助于提高材料表面的附着力；等离子体化学清洗过程中材料表面活化形成的自由基，能够进一步加成特定的官能团。如含氧、含氮官能团等，对改善材料的粘着性和润湿性能起着明显作用。因此，对等离子体清洗类型的选择主要取决于材料表面的原有特征、材料表面污染物的性质以及后续处理工艺对材料表面的特性要求等。