在化学相容性或粘接中存在的强界面力可以增强两个表面之间的附着力。聚合物通常具有较低或中等的表面能，胺基亲水性使其难以粘接或覆盖其表面。经氧等离子体处理后，pp的表面张力从29dyn/cm增加到72dyn/cm，几乎达到零接触角总吸水量所需的值。其他材料的表面将通过活化过程进行硝化、氨化和氟化。等离子体表面改性可以在表面形成胺基、羰基、羟基、羧基等官能团，提高界面附着力。
非高分子无机气体（AR2.N2.H2.02等）利用等离子体进行表面反应，季胺基亲水性通过表面反应将特定的自由基引入表面，在等离子体活化（activation ).) 在表面形成自由基。自由基在表面上的自由基位点进一步反应形成特定基团，例如过氧化氢。更常用的是在高分子材料表面引入含氧基团。例如，-0 路-00 路。胺基也被引入材料表面。
涂膜结束后，胺基亲水性测定孔内溶液的蛋白浓度。包覆前孔中的蛋白量减去包覆后孔中的蛋白量即为酶板上吸附的蛋白量。这样就可以知道平板的可吸收性。一般酶标板材料为聚苯乙烯(PS)，表面能低，亲水性差，经过低温等离子体接枝处理后，可在基材表面引入醛基、胺基和环氧基等活性官能团，可提高对基材表面的侵袭性，使酶牢固地固定在载体上，提高酶的稳定性。
等离子清洗机在塑料行业应用特点:●具有工艺简单、操作方便、加工速度快、处理效果好、环境污染小、节能等优点;●等离了休技术在塑料元件的改性工艺中，胺基亲水性提高了塑料的润湿率:●等离子体化技术应用于塑料窗用玻璃、汽车百叶窗和氖灯、卤天灯的反光镜处理;●涤纶纤维坚固耐穿，仙其结构紧密、吸水性差、难染色，采用低温氮等离子体引发丙烯酰胺对涤纶织物进行接枝改性，接枝后涤纶织物的.上染百分率、染色深度及亲水性都有明显提高。
胺基亲水性
此外在进行植绒工艺前，还需要用打磨刷对EPDM表面打磨，这产生大量的粉尘污染，对随后的将细微的聚酰胺纤维喷射到粘合剂上的植绒工艺也带来品质干扰。现在，通过采用大气压等离子处理技术，底涂和打磨工艺已被完全取代。新工艺的应用使废品率被降至最低水平，而且还通过省去溶剂第一次实现了持续的环境保护，同时产线的生产能力也大幅增加。
等离子清洗机在塑胶、橡胶行业应用比较广泛，主要体现在以下几个方面： 1.增加油墨附着性和提高印刷质量等离子体技术用于各种常用的印刷工艺，比如移印、丝印、胶印等。对于较难印刷的材料表面，如聚丙烯、聚乙烯、聚酰胺、聚碳酸酯、玻璃和金属等，只有采用等离子预处理技术，无溶剂的印刷油墨才能长久地牢固附着。
等离子体改性是一种气固相干法处理聚合物的新方式，具有快速、高效、无污染、操作简单、节省能源等优点，反应仅涉及纤维100nm内的浅表面，不改变聚合物的性能而可赋予聚合物新的特性。等离子体通常含有高能态的粒子，当这些高能态粒子作用到聚烯烃纤维上时，会产生加热、刻蚀以及自由基反应，这些作用可引人亲水性基团，从而使聚烃类纸张具有亲水性能。。
应用领域 ★汽车制造行业 ●EPDM密封条、植绒和涂层前预处理，汽车仪表 ●汽车前灯PP底座，沟槽粘结前预处理； ★塑料橡胶行业 ●在生产线上塑料瓶贴标签前处理湿粘系统替代热熔和扩散； ●PP薄膜单面预处理稳定持久，可用于水基分散性粘结剂； ●塑料手机外壳以及助动车外壳，油漆前处理； ★光电制造行业 ●柔性和非柔性印刷电路板触点清洁LCD荧光灯管“触点”清洁； ★金属及涂装行业 ●铝的型材进行预处理替代打毛、打底漆，得到稳定氧化层； ●铝箔去除润滑油－－无湿化学处理方法； ●不锈钢激光焊接前处理 ★化纤及纺织行业 ●纤维进行预处理速度可达60米/分； ●玻璃表面和镜面粘结前平面清洁； ★常压等离子表面处理器plasma应用于印刷及喷码行业 ●自动糊盒机等离子处理可提高UV、覆膜折叠纸盒粘接牢固性，可使用环保水性粘合剂，减少胶水使用量,有效降低生产成本 ●带有OPP, PP, PE覆膜的纸板； ●带有PET覆膜的纸板； ●带有金属镀层的纸板； ●带有UV 涂层的纸板(UV油固化后本身不能脱层)； ●浸渍纸板； ●PET,PP透明塑料片材等。
胺基亲水性
小银胶基底：污染物会导致胶体银呈球形，酰胺基亲水性原理不利于贴片，易刺伤导致切屑手册。使用RF等离子清洗可大大改善表面粗糙度和亲水性，有利于银胶体和瓷砖贴屑。同时，使用量可节省银胶，降低成本。引线键合：在芯片与衬底键合之前和高温固化之后，现有的污染物可能含有微粒和氧化物。这些污染物的物理和化学反应导致芯片与基板之间的结合不完全，结合强度差，附着力不足。
这将进一步提高整个物品的清洁效率。 5、低温等离子发生器是一种全新的高科技，季胺基亲水性利用等离子达到传统清洗方法无法达到的效果。这些活性成分的特性用于对样品进行表面处理，以达到清洗、涂覆、改性和光刻胶灰化等目的。。冷等离子体发生器重新组合表面分子结构的化学键以形成新的表面特征。 1、低温等离子发生器的清洗原理是利用化学或物理作用，使工件表面达到分子水平。用于去除污染物的结构（通常为几到几十纳米厚）。
