等离子体表面处理对活化产品的表面分子在一起不会对其结构造成破坏，氧蚀刻无论是在不同种类的硅胶产品还是橡胶等特殊印刷材料上，通过等离子体表面处理，可以提高产品表面的附着力，减少传统印刷方法的处理技术，减少生产资金，更好地应用无法打印的以上数据，为客户开拓新的市场，创造新的价值。。等离子清洗机通常用于:1。表面等离子体激活/清洗;2。2 .等离子处理后上胶;等离子体蚀刻/激活;4。等离子体脱胶;5。
蚀刻气体主要由O2或N2/H2组成。掩模蚀刻的控制要求主要包括:①图形传输精度。避免蚀刻过程中的失真导致通道通孔图不准确。②硬罩侧壁应尽量连贯垂直。随后的10对SiO2/S坚硬的面具作为阻挡层的蚀刻i3N4电影,和硬掩模缺陷面墙将传播到二氧化硅/氮化硅薄膜对在随后的蚀刻过程。(3)的关键维度都是1度。
导管被蚀刻成像的原因包括物理溅射和化学蚀刻。等离子体中的带电活性在材料表面处理中起着重要的作用。由于电子比离子移动得快得多，氧蚀刻设备放置在等离子体中的材料的表面电位相对于等离子体电位是负的(称为漂移电位)。高速的电子激发、电离或将反应分子分解为自由基碎片，同时正离子不断轰击被处理材料的表面，显著影响表面发生的化学反应。化学蚀刻是由于等离子体中的活性粒子的能量接近或略大于被处理材料的分子键的键能。
技术参数 CPC-ACPC型号B方-A - 13.56Cpc-b-13.56舱室尺寸Φ 300 × 300 × 100 mm Φ Φ 300 × 150mm至100 mm300X φ 150mm舱室容积2.6 5.2 2.6 L L L5.2L射频电源40 KHZ至13.56 mhz自动匹配匹配器自动匹配射频功率10-200W无极可调10- 150w无极可调电源220v 50/ 60hz功率流量1.2a时间设置1-99分钟59秒气体稳定时间1分钟真空100pa内电容励磁方式产品尺寸LxWxH 550x520x285m包装尺寸LxWxH 690x630x450mm机器重量15Kg 20Kg 18Kg 25Kg。
氧蚀刻
吉姆•摩根的邀请当时的总统,应用材料公司的董事长兼首席执行官,摩根先生于1980年加入该公司,在接下来的25年里,他的第一个原型单片机汇编技术于1993年被陈列在史密森学会博物馆在华盛顿特区,这是一个自主设计的机器在同一个房间里还展出了贝尔电话、苹果电脑和IBM最早的一台机器。1983年，hexode型RIE等离子清洗器蚀刻机设计荣获半导体年度大奖。
房颤anti-fingerprint中文,房颤等离子涂层机也称为房颤喷洒机、AF等离子喷涂机器,anti-fingerprint, etc.Anti-Smudge中国意味着反污染,作为等离子体镀膜机也称为等离子体镀膜机,石油——证明等离子体镀膜机、喷雾机、etc.AG,防眩光,中文名称是防眩光，又称AG等离子喷涂机，防眩光等离子喷涂机，防眩光等。中文为增强反射，AR等离子镀膜机又称AR喷涂机。
车用植绒前密封条等离子清洗机:植绒前密封条等离子表面处理系统由喷气大气等离子处理主机、传动机构、速比和控制单元组成，主要用于PE和硅橡胶电缆编码、橡胶止水带植绒前处理、可提高编码油墨与植绒层的复合力，提高产品质量。等离子体表面处理系统是一种在线加工设备，它可以对材料进行快速、连续的表面改性处理，是一种快速、高效、环保、节能的绿色表面处理工艺。
从事等离子清洗及表面处理研究十余年，公司核心团队从事等离子清洗及表面处理研究十余年。产品已广泛应用于IC封装、LED封装、LCD贴片、元器件封装、厚膜电路封装、工程塑料表面处理等工艺。我公司生产的全自动在线等离子清洗机，与传统方法相比，产品可靠性和成品率显著提高。综合起来，其功能和容量都优于进口设备，具有良好的性价比。
氧蚀刻机器
表面活化是物体经过等离子清洗机处理后表面能增强、改善附着力、附着力;表面蚀刻等离子设备是指等离子体通过反应气体选择性地蚀刻在材料表面。被蚀刻的材料被转换成气相，氧蚀刻设备由真空泵排出。经处理后，材料的微观比表面积增大，具有良好的亲水性。等离子体设备纳米涂层是用来反应气体如:六甲基二硅烷醚(HMDSO)、六甲基二硅烷胺(HMDSN)、四乙二醇二甲基醚、六氟乙烷(C2F6)。
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