随着微电子器件的小原子层沉积（ALD）技术的快速发展，泉州大气直喷射等离子清洗机该技术对于高纵横比的沟槽和具有复杂三维结构的表面具有出色的台阶覆盖率。更重要的是，它是基于前体表面的。限制自化学吸附反应，ALD可以通过控制循环次数来精确控制薄膜厚度。在ALD工艺中，沉积材料的前体和反应的前体交替进入反应室。在此期间，未反应的前体被惰性气体吹扫，使反应气体交替进入自限沉积模式。近年来，许多研究人员使用原子层沉积技术沉积铜薄膜。
CH4 + E * & MDASH;> CH3 + H + E (3-1) CH3 + E * & MDASH;> CH2 + H + E (3-2) CH2 + E * & MDASH;> CH + H + E (3-3) CH + E * & MDASH;> C + H + E (3-4) CH4 + E * & MDASH;> CH2 + 2H (H2) + E (3-5) CH4 + E * & MDASH;> CH + 3H (H2 + H) + E (3-6) CH4 + E * & MDASH; C + 4H (2H2) + E (3-7) 自由基和下一个产品 A 之间的耦合发生反应。
作为电子加速的机理，泉州大气等离子设备当电子与氩原子弹性碰撞并绕电场运行时，电子的速度和能量增加，如果满足上述条件，电子可以获得电离能。 . , 即使在电场强度很弱的情况下也可以获得电离能。使用这种机制，理想的电场频率范围通常在几千 MHz 左右。有学者将这一机制延伸，认为从壁面和阴极发射的二次电子加速后，进入光放电区，成为属于二次电子扩散现象的额外电子源。
氧化钛膜厚：0.400 μm 0.43 μm 0.47 μm 0.53 μm 0.58 μm 颜色 紫色 浅蓝色 蓝色 蓝色 绿色 黄色 当然，泉州大气直喷射等离子清洗机也有氮化硅等其他层可以实现这种干涉效应。还有氧化硅。 , 见下表。
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这些高能电子与甲烷分子发生非弹性碰撞，然后与许多活性物质产生活性自由基，进一步碰撞结合形成新物质。
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