等离子体是物质的一种状态，镀膜层附着力不好也称为物质的第四状态，不属于固液气体的三种一般状态。当向气体施加足够的能量以使其电离时，它就会变成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、原子、反应基团、激发核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗剂利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理，达到清洗、镀膜等目的。
在低温电晕清洗机上产生的等离子体氮化复合镀膜，影响镀膜层附着力的因素用激光熔覆活化屏:齿轮是机械系统中传递载荷与运动的重要部件。受循环载荷、长期磨损等工况，齿类零部件往往由于齿面受损或受损而失效，因此齿轮的失效直接影响机械系统的正常工作。因齿类零部件数量多，作用大成本高，因此对其再制造有着显著的经济效益。
等离子清洗剂利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理，影响镀膜层附着力的因素达到清洗、镀膜等目的。等离子体按气体可分为以下两种。活性气体和惰性气体等离子体：根据产生等离子体的气体的化学性质，可分为惰性气体等离子体和活性气体等离子体。气体包括氩气（Ar）、氮气（N2）、三氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空气等惰性气体，以及氧气（O2）和氢气（H2）等活性气体，有两种。
典型气体放电的电子密度为 1016 至 1020/m3。气体放电的正负离子不同于原来的中性粒子，影响镀膜层附着力的因素如N+、N、O+、O等空气放电等离子体产生的大量离子。2、NO-、NO2、O2、O3等电子的作用通常占主导地位，但每种类型的离子都会影响气体放电的电特性。冷等离子体中有多种粒子不断运动碰撞，都属于非弹性碰撞。等离子元工艺，或等离子显微工艺，或等离子显微工艺，称为：如下表所示。
影响镀膜层附着力的因素
等离子体清洗设备可以通过改变ITO的表面特性来影响OLED的性能:铟锡氧化物(ITO)由于其高透光率和良好的导电性，被广泛用作有机发光器件(OLED)的正极材料。而ITO的表面功函数与NPB的高电子占有轨道(HOMO)之间存在着很高的势垒。设备驱动过程中会出现电压高、工作效率低、寿命短等问题。通过研究发现，对ITO氧等离子体清洗设备进行等离子体处理，可以大大提高喷孔和装置的稳定性。
等离子体技术能够合理有效地去除精密零件表面的杂质颗粒，主要是由于等离子体辐照和冲击波的广谱因素。当基体和颗粒的热膨胀程度不同时，脉冲能量合理有效地传递到基体和表面的杂质颗粒上，导致两种颗粒分离。等离子体处理产生的影响将进一步克服颗粒对基面的吸附能力，从而达到对杂质颗粒的去除。
随着经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高。等离子技术正在逐步进入消费品生产行业。此外，科学技术方面，各种技术问题也在不断被提出。随着新材料的不断涌现，越来越多的科研院所认识到等离子技术的重要性并投入巨资进行技术研究，等离子技术在其中发挥了重要作用。但是，如果影响等离子清洗结的因素没有得到妥善处理，就会影响等离子清洗对象的表面耦合问题。在等离子脱胶法中，脱胶气体为氧气。
等离子体表面处理机主要利用活性等离子体对材料表面进行轰击，如物理轰击、化学反应等单一或双重作用通过这种方式,它可以删除或修改的分子水平上表层材料表面的污染物,并能有效去除有机残留物,颗粒污染和材料表面的氧化物薄层在包装过程中,提高工件的表层的活动,避免粘接或虚拟焊接等情况。等离子表面处理机不仅可以大大提高粘接性能和粘接强度，而且避免了人为因素与引线框长时间接触造成的二次污染。。
影响镀膜层附着力的因素
相对于绝大多数的设计，镀膜层附着力不好FPC的性能需求、成本费用、制造技术和系統的复杂度等关键因素存有不少相互间冲突的要求，FPC的叠层设计一般来说是在考量各个方面的关键因素后折中决定的。高速数字电路和射频电路一般来说都是采取多层板设计。分层在多层电池FPC中，通常情况下含有有的信号、电源平面和接地平面。电源平面和接地平面一般而言是没有分割的实体平面。
