密封成型产品与铜引线框架之间的分层会降低密封性能，芯片蚀刻机器封装后会长期产生气体，影响芯片键合和引线键合的质量。我们保证封装可靠性和良率之间的关系。键合等离子处理对引线框架表面提供了超级清洁和活化作用，与传统的湿法清洁相比，大大提高了良率。在这些材料表面电镀 NI 和 AU 之前使用等离子清洗。这样可以去除有机污染，显着提高涂层质量。
X 射线光电子能谱 (XPS) 和表面衍生技术用于确定用所需化学基团修饰的表面的比例。例如，芯片蚀刻机巨头逆袭,3nm芯片烯丙胺的表面聚合可以形成氨基。为了确定伯胺的量，可以用试剂选择性地氟化伯胺。氟很容易被 XPS 检测到并被使用，因为它的化学性质没有改变（例如，氮可以与含氮官能团共存）。表面伯胺浓度是通过XPS检测表面氟浓度得到的。结论 多年来，等离子技术一直用于半导体行业的微芯片制造领域。
设备表面采用等离子表面处理技术清洗，芯片蚀刻机巨头逆袭,3nm芯片提高引线抗拉强度，减少设备故障，提高设备合格率。芯片中导线连接的质量对微电子器件的可靠性有重大影响。大陆带应清洁，连接性能良好。氧化物和有机残留物等污染物的存在会显着降低电线连接的拉伸值。而传统的处理方法不能或不能完全去除或去除键盘中的污染物，等离子方法有效去除污染物，激活键盘表面的污染物，引线键，可以大大提高和有效提高焊盘的拉力。集成电路设备。可靠性。
氧化物和有机残留物等污染物的存在会显着降低引线连接的拉力值。传统的湿法清洗不能完全去除或去除接头上的污渍，芯片蚀刻机巨头逆袭,3nm芯片而等离子清洗可以有效去除接头表面的污渍，活化表面，增加导线的键合张力...
