由于气体中电子数量、碰撞频率、粒子扩散和传热速率的不同，光刻和刻蚀基本工艺流程不同的压力和电流范围会导致暗电流区、辉光放电区和电弧放电。显示该区域。该电流的大小取决于功率负载特性曲线和放电特性曲线上与电阻R1和R2对应的下降线（工作点A、B、C）的交点。 1、暗电流区：电磁场使电子加速以获得足够的能量，与中性分子碰撞导致新产生的电子数量迅速增加。在 10-7 到 10-5 A 时，在阳极附近出现非常薄的发光层。
在某些情况下，光刻和刻蚀基本工艺流程此结果不能完全取决于确定是否满足处理要求。例如，在去除颗粒的过程中，水滴角测试无法显示颗粒是否已被去除。接触角测试仪是一种用宽幅等离子装置测量各种材料表面加工前后水滴角度的装置。这取决于被加工材料的分子或结构结构。不同的初始表面能材料在等离子体处理前后具有不同的表面反应。因为相同，加工后的角度不同，尤其是有机材料。
气体放电的正负离子与原来的中性粒子不同，光刻和刻蚀基本工艺流程如空气放电等离子体产生的许多离子如N+、N、O+、O2、NO-、NO2、O2、O3等离子增多。 .. 电子的作用通常占主导地位，但每种类型的离子都会影响气体放电的电性能。冷等离子体中有各种粒子不断运动碰撞，都属于非弹性碰撞。如下图所示，它们被称为等离子元工艺，或等离子微工艺，或等离子微工艺。在下表中。
所谓火焰处理，光刻和刻蚀有何不同就是利用一定比例的混合气体，利用专用灯座，使火焰与聚烯烃表面直接接触的一种表面处理方法。在成帧法中，将羟基、羰基、羧基等含氧极性基团和不饱和双键引入聚烯烃材料表面的污垢中，去除（去除）薄弱的界面层，显着（去除）键。显然）它也可以改进。影响。 ）。影响火焰处理效果（效果）的主要因素有灯座类型、燃烧温度、处理时间、燃烧气体比例等。影响流程的因素很多，会使操作流程要求严格，稍有不慎。
