等离子清洗作为一种先进的干洗技术，什么材料能赋予光刻胶亲水性具有绿色环保的特点。随着微电子工业的快速发展，等离子清洗机在半导体行业得到越来越多的应用。等离子清洗具有工艺简单、操作方便、无废物处理和环境污染等优点。等离子清洗常用于光刻胶去除过程。少量氧气被引入等离子体反应系统。在强电场的作用下，氧气产生等离子体，将光刻胶迅速氧化成挥发性气体，被抽走。这种清洗技术具有操作方便、效率高、表面清洁、无划痕等优点，有利于保证产品质量。
湿法蚀刻系统与等离子蚀刻工艺上不同过程包括哪些步骤：湿法处理系统提供了可控制的化学药品滴注能力，光刻胶亲水性使颗粒从基片表面除去能力进一步增强。同时SWC与LSC都具有点滴试胶系统，可大大节约化学药品的用量。滴胶系统支持智能控制的化学药品相混能力，使化学药品在整体基材上分布受控。提供高重复性、高均匀性和先进的兆声清洗，兆声辅助下的光刻胶剥离，以及湿法刻蚀系统。
由于衬底具有负电位，光刻胶亲水性在衬底与等离子体的界面处形成由正离子组成的空间电荷层，即离子鞘。 ``。用于封装微电子元件的等离子表面处理设备可以提高材料的表面张力。由于微电子染色、自然氧化等，如指纹、助焊剂、各种相互污染、自然氧化等，设备和材料的表面是各种微观污染物，包括有机物、环氧树脂、光刻胶、焊料、金属盐、等形式。在包装的制造过程中，这些污染物对相关过程的质量有重大影响。
