4、装置末端有单独的消声段，光刻胶附着力采用优质玻璃纤维消声材料和内孔网格结构体系，使声波能够轻松有效地进入纤维深层。它通过将身体和声音能量转换为振动能量来保护设备。减少（降低）噪音。低温等离子清洗技术的特点是无论被处理的基板类型如何，都可以进行处理。它可以正确处理乙烷、环氧树脂，甚至聚四氟乙烯，以实现完全和部分清洁和复杂结构。。又称光刻机（MASK ALIGNER）：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。
等离子清洗常用于光刻胶去除工艺。将少量氧气引入等离子体反应体系，光刻胶附着力不好在强电场作用下，等离子体中产生氧气，光刻胶迅速氧化成挥发性气体。这种清洗技术操作方便、效率高、外观干净、无划痕，有利于保证产品在脱胶过程中的质量，并且不需要酸、碱或有机溶剂，越来越受到人们的重视。。等离子清洗机在半导体晶圆清洗工艺中的应用随着半导体技术的不断发展，对工艺技术，尤其是对半导体晶圆表面质量的要求越来越高。
挨近接触式经过无限靠近，光刻胶附着力不好仿制掩模板上的图画；投影式光刻选用投影物镜，将掩模板上的结构投影到基片外表；而直写，则将光束聚焦为一点，经过运动工件台或镜头扫描完成任意图形加工。光学投影式光刻凭借其高效率、无损伤的优点，一直是集成电路干流光刻技能。 光刻机应用 光刻机可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、ＮＭＥＭＳ器件等微纳结构器件的制备。
