微波等离子体除胶剂应用于第三代宽禁带semiconductorIntroduction:根据第三代半导体的发展,其主要应用是半导体照明,电力电子,激光器和探测器,和其他四个类别,每个类别的工业成熟度是不一样的。在研究的前沿，icp刻蚀机价格宽带禁带半导体仍处于实验室开发阶段。注:阿尔法等离子体微波等离子体清洗/脱胶设备已应用于相应的宽带隙半导体研发生产单位，并为相关工艺提供技术支持。
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