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含氧基团对亲水性的影响

结果与分析经过等离子火焰处理机预处理,亲水性的高分子材料约3分钟后,接触角从113.8°降至50°左右,随着处理时间的延长,接触角变化趋于稳定或略有增加,尤其是当处理时间超过7min以上时,木材表面受高能电子的影响较大,离子相对不间断,能量积累较大,局部有过深的蚀刻性,等离子火焰处理机处理使木材表面产生大量含氧官能团和过氧化物,部分羧基、羰基等发色基团,等离子体高能放电使木材表面温度升高,易造成局部色泽变深,产生炭化现象。

亲水性的高分子材料

等离子体表面处理工艺能有效地处理上述两类表面污染物,亲水性的高分子材料但处理过程中首先要选择合适的处理气体。用氧和氩作为等离子表面处理工艺中最常用的工艺气体。1、氧气可在等离子环境下电离造成大量含氧极性基团,可有效地祛除材料表面的有机污染物,并在材料表面吸附极性基团,有效地提高材料的结合性能–微电子封装工艺中,塑封前的等离子处理是此类处理的典型应用。

因此,含氧基团对亲水性的影响对氢氟酸的使用,需要兼顾硅沟槽的清洗效果和浅沟槽隔离氧化硅的损耗。 锗硅的外延生长对硅沟槽表面性质非常敏感,很容易形成各种外延缺陷。因此对硅沟槽等离子清洗机设备干法蚀刻后的灰化工艺选择就变得非常关键。灰化工艺不仅要去除残余光阻,还要得到纯净的硅表面以利于锗硅的外延生长。灰化工艺包含氧化型灰化,低氢混合气体(含有4%氢气的氮气氢气混合气体)灰化、高氢混合气体(氢含量大于...

亲水性的高分子材料(含氧基团对亲水性的影响)

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