结果与分析经过等离子火焰处理机预处理，亲水性的高分子材料约3分钟后，接触角从113.8°降至50°左右，随着处理时间的延长，接触角变化趋于稳定或略有增加，尤其是当处理时间超过7min以上时，木材表面受高能电子的影响较大，离子相对不间断，能量积累较大，局部有过深的蚀刻性，等离子火焰处理机处理使木材表面产生大量含氧官能团和过氧化物，部分羧基、羰基等发色基团，等离子体高能放电使木材表面温度升高，易造成局部色泽变深，产生炭化现象。
等离子体表面处理工艺能有效地处理上述两类表面污染物，亲水性的高分子材料但处理过程中首先要选择合适的处理气体。用氧和氩作为等离子表面处理工艺中最常用的工艺气体。1、氧气可在等离子环境下电离造成大量含氧极性基团，可有效地祛除材料表面的有机污染物，并在材料表面吸附极性基团，有效地提高材料的结合性能–微电子封装工艺中，塑封前的等离子处理是此类处理的典型应用。
因此，含氧基团对亲水性的影响对氢氟酸的使用，需要兼顾硅沟槽的清洗效果和浅沟槽隔离氧化硅的损耗。 锗硅的外延生长对硅沟槽表面性质非常敏感，很容易形成各种外延缺陷。因此对硅沟槽等离子清洗机设备干法蚀刻后的灰化工艺选择就变得非常关键。灰化工艺不仅要去除残余光阻，还要得到纯净的硅表面以利于锗硅的外延生长。灰化工艺包含氧化型灰化，低氢混合气体(含有4%氢气的氮气氢气混合气体)灰化、高氢混合气体(氢含量大于20%)灰化。
等离子体接枝和表面功能化可显著提高细胞黏附。等离子体接枝和表面功能化为生物组分与底物之间建立共价键提供了一种方便、高效的方式。在许多情况下，亲水性的高分子材料需要通过体外材料的表面修饰来提高培养细胞的粘附和生长速度。在某些特殊情况下，细胞粘附效应(果实)是保证细胞繁殖的必要条件。在体外细胞培养皿中，经过血浆表面改性后，细胞在其表面的繁殖速度明显快于未处理的培养皿表面。
含氧基团对亲水性的影响
随着锂电池技术的不断发展，大气压等离子体在锂电池中的应用越来越广泛，关于正负极材料、隔膜、固体电解质的制备和改性的报道也很多。 ..常压等离子技术的优点是： 1.可以制备具有高结晶度和纯晶界的高密度电极和固体电解质。 2.可以加快晶体的生长速度。 3.减少材料生长过程中的（纳米）团聚； 4. 降低（降低）反应体系或材料基材的温度；五。有助于在电极或隔膜表面沉积薄膜材料和涂层。
2004年辞去应用材料公司副总裁职务回国在上海创办中微半导体设备股份有限公司目前研发的等离子体清洗机CCP刻蚀机具有超高频低频混合射频解耦反应等离子体源和独特的多反应室双反应台系统，在刻蚀28nm逻辑低介电材料和存储器介电材料方面取得突破性进展，进入市场。
电极间常压低温等离子体脉冲峰值电压的影响： 常压低温等离子体脉冲峰值电压的影响：当脉冲峰值电压从12KV变化到16KV时，甲烷转化伴随着脉冲峰值电压的不断增加。率会大大提高。这是因为峰值电压反映了注入电抗器的能量。这对应于增加大气低温等离子体中高能电子的能量和数量，即甲烷的活化和转化率。但随着峰值电压的升高，C2烃的选择性持续下降，C2烃的收率没有明显变化。
对实验结果的进一步分析表明，在相同的实验条件下，玻璃环的内径为等离子鞘层。护套的厚度与气体压力、放电功率、介电材料等有关。电子密度和电子温度等参数。研究结果对于复杂的详细研究非常重要。带电粒子在各种约束下在等离子体鞘层中的运动以及等离子体鞘层对加工的影响。。等离子 (PLASMA) 是一种利用自由电子和带电离子进行的等离子预处理和清洁作用，为塑料、铝甚至玻璃的后续涂层操作创造理想的表面条件。
含氧基团对亲水性的影响
氩通过将氧分子从金属中分离出来来防止氧化。。等离子体发生器技术半导体材料晶圆清洗已经成为一种成熟的工艺:在半导体材料生产过程中，亲水性的高分子材料几乎每一道工艺都需要清洗，循环清洗质量严重影响设备性能。由于循环清洗是半导体制造过程中重要且频繁的工艺，其工艺质量将直接影响设备的合格率、性能和可靠性，国内外各大公司和研究机构不断开展对清洗工艺的研究。等离子技术是最新的干洗技术，具有低碳、环保的特点。
