通过活化气体射流与电离气体发生化学反应，气相清洗机研制并被压缩空气加速，污垢颗粒被转化为气相，然后通过排气管和连续的气流排出。氧化铜的还原发生时，氧化铜与气态等离子体的氢气混合物接触。氧化物发生化学还原，形成水蒸气。混合气体中含有Ar/H2或N2/H2，其中H2小于5%。以大气等离子体为例，它在工作时消耗大量气体。
等离子清洗机表面活化是指物体经过等离子清洗机加工后表面能增强、提高附着力、附着力;等离子清洗机表面蚀刻是指材料表面通过气体的反应，气相清洗机等离子体被选择性蚀刻，被蚀刻的材料被转化为气相并由真空泵排出，经过处理后的材料微观比表面积增加，并具有良好的亲水性;等离子清洗机纳米涂层是反应气体如:六甲基二硅烷醚(HMDSO)、六甲基二硅烷胺(HMDSN)、四乙二醇二甲基醚、六氟乙烷(C2F6)等，通过等离子体聚合作用将在表面形成纳米涂层，这种技术可以应用于许多领域。
从化学反应机理来看，气相清洗机研制等离子体清洗技术一般包括以下过程:无机气体被激发到等离子体中;气相物理地附着在固体表面上;附着基团与表面分子反应生成产物分子。产物分子被分析为气相。化学反应残渣从表面分离出来。等离子体与材料表面的化学反应主要有物理反应和自由基反应。等离子体表面物理反应机理研究。
许多冶金涂层是通过物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)方法生产的。PVD镀膜系统是通过气化或溅射的方法将固体镀膜材料凝固沉积在相对冷的工件表面。工件的温度一般原则上不会降低材料的内部性能。然而，气相清洗机操作说明PVD涂层与清洁良好的表面之间的附着力并不大，因此应用往往受到限制。CVD涂...
