在等离子体清洁器作用下，二氧化钛的超亲水性CH4和二氧化碳直接转化生成C2烃类。碳氢化合物的主要产物为C2H2和C2H6。等离子体功率的增加有利于C2H2的生成。CH被CO2氧化为C2烃类。甲烷转化率为31%，CO2转化率为24%，C2烃的选择性为64%。。CMOS工艺中等离子体损伤WAT方法的研究；硅片透射检测是在半导体硅片的所有制造工艺完成后，检测硅片上各种检测结构的电性能。
由于现有的等离子清洗机可以很好地调节温度，二氧化钛亲水性实际应用因此材料清洗可以达到预期的效果。。彩盒等离子机处理器的高效率消除了粘合剂开口的问题。彩盒开胶处理设备采用直喷等离子机处理器。他们研究中的等离子体处理设备产生含有大量氧原子的氧化活性物质。当这些基于氧的等离子体喷射到材料表面时，附着在基材表面的有机污染物的碳分子被分离，转化为二氧化碳，然后被去除。同时对材料进行了有效改进，提高了强度和可靠性。
通常，二氧化钛亲水性实际应用将气体引入等离子表面处理机有两个目的。由于等离子体作用的原理，可选气体可分为两类：氢气和氧气等反应性气体。用于清洁金属表面。氧化物发生还原反应。
