下面以氧等离子体去除物体表面的油脂和污垢为例来说明这些效果。分析表明，二氧化钛超亲水性原理等离子体对油脂和污垢的影响类似于油脂和污垢的燃烧反应。但不同的是，它处于低温状态。发生的“燃烧”。在氧等离子体中的氧原子自由基、激发的氧分子、电子和紫外线的共同作用下，油分子最终被氧化成水和二氧化碳分子并从物体表面去除。用等离子去除油渍的过程就是有机大分子逐渐分解，最终形成水、二氧化碳等小分子的过程，以气体的形式被去除，这个我理解。
喷枪出口温度只有几百度甚至更低，二氧化钛超亲水性原理目前已推广应用于家电、汽车行业。一些高科技公司，如中国的电晕实验室，已经将这项技术商业化，用于高速在线处理。1.大气射流低温等离子体表面处理原理流经冷弧等离子体射流枪的气流可以产生包括大量氧原子的氧基活性物质。氧基等离子体照射材料表面，可将附着在材料表面的有机污染物“C”的分子分离出来，转变为二氧化碳后被去除；同时可以改善接触性能，从而提高接头强度和可靠性。
等离子体清洗过程中，纳米二氧化钛超亲水性氧气变成含有氧原子自由基、激发态的氧气分 子、电子等微粒的等离子体，这类等离子体与固体表面发生的反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反 应，物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染 物脱离表面被真空泵吸走，化学反应机制是 Ｏ活 性粒子将有(机)物氧化成水和二氧化碳分子，并从表面清(除)，由真空泵吸走。
在集成电路封装过程中，纳米二氧化钛超亲水性氩离子撞击焊盘表面，撞击力去除工件表面的纳米级污染物，产生的气态污染物通过真空泵抽吸，将其排出。清洗工艺提高了工件的表面活性，提高了封装的粘合性能。氩离子的优点是它们是物理反应，清洗工件表面时不会产生氧化物。缺点是工件的材质会造成过度腐蚀，可以通过调整清洗工艺的参数来解决。 2) 氧气氧离子在反应室中与有机污染物反应生成二氧化碳和水。
二氧化钛超亲水性
因此，在脉冲电晕等离子体作用下CO2氧化CH4反应中，不能单纯通过增加能量密度来提高产率，而应在不增加能量密度的情况下通过其他途径来提高产率。。等离子体载体催化剂活化方法的比较:在CO2氧化CH4生成C2碳氢化合物的反应中，目前常用的活化反应物甲烷和二氧化碳的方法有催化活化法和等离子体活化法。介绍了等离子体催化活化法。作为对比，三种活化条件下CO2氧化CH4生成C2烃类的结果如表4-3所示。
大多数研究者认为CO2在plasma等离子体作用下的裂解反应机理主要涉及以下两个步骤：1、等离子体产生的高能电子与二氧化碳分子发生非弹性碰撞，成为激发态CO2分子；2、激发态CO2分子解离为CO和活性O原子，活性O原子复合生成氧气。采用光谱技术在线检测plasma等离子体作用下CO2转化反应活性物种，可观察到C、CO+、CO及0活性物种。
从聚合物材料的表面活化到半导体离子注入等一系列应用中都可以看到这种多样性。等离子处理技术用于许多制造行业，尤其是汽车、航空航天和生物医学部件的表面处理。等离子技术在环境保护方面显示出优势，因为它减少了有毒液体的使用。同时，等离子技术与纳米加工兼容，具有大规模工业制造的优势。等离子技术对制造业的重大影响体现在微电子行业。没有等离子相关技术，大规模集成电路就无法准备就绪。 VLSI 多层金属介电互连。
对于一些特殊用途的材料，等离子清洗机在超清洗过程中的辉光放电不仅增强了这些材料的附着力、相容性和润湿性，而且杀菌（消毒）和杀菌（细菌）也将完成。等离子清洗剂广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微流体等领域。等离子技术应用的优势（与传统工艺相比）：一个矩阵的独特性质是不变的，变化只发生在表面，从除数到几十纳米（米）。
二氧化钛超亲水性原理
各种工艺气体对清洗效果的影响： 1）等离子设备和氩气。在物理等离子清洗过程中，二氧化钛超亲水性原理氩气形成的离子携带能量，冲击工件表面，去除表面的无机污染物。在集成电路封装过程中，氩离子会与焊盘表面发生碰撞。吹除工件表面的纳米污染物，形成的气体污染物由真空泵抽出。这种清洗工艺可以增加工件表层的活性，提高包装中的结合性能。氩离子的优点是它是一种物理反应，不易将氧化物带到工件表面。
