等离子体表面清洗设备的应用；1.清洗光学器件、电子元件，盖玻片亲水性清洗光学镜片、电子显微镜等各种镜片、载玻片，去除光学元件、半导体元件表面的光刻胶物质，清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体、宝石；2.口腔领域：对有机硅冲压材料和钛牙移植物进行预处理，增强其润湿性和相容性；3.医疗领域：假肢移植物表面预处理，增强浸润、粘附、相容性，医疗器械消毒灭菌；4.提高用于粘接光学元件、光纤、生物医用材料、航空航天材料等的胶水的附着力；5、去除金属材料表面的氧化物；6.活化玻璃、塑料、陶瓷、高聚物等材料表面，增强其表面附着力、润湿性和相容性；7.高分子材料的表面改性。
它可以对金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等各种几何形状、不同表面粗糙度的物体进行表面改性，盖玻片亲水性去除样品表面的有机污染物。真空等离子体清洗设备可以清洗半导体元件、光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基板、终端设备等，同时还可以清洗光学镜片，清洗各种镜片和载玻片，如光学镜片、电镜载玻片等，同时真空等离子体清洗设备还可以去除光学元件和半导体元件表面的氧化物、光刻胶，以及金属材料表面的氧化物。
圆形盖玻片用作基底材料，盖玻片亲水性硝酸银溶液或 AgNPs 悬浮液用作可喷涂添加剂。为保证涂层的抗菌效果，采用体积比为1：1的异丙醇和水的混合溶液制备硝酸银。使用阀门、蠕动泵和加压气体（通常是氮气）将该溶液直接喷射到等离子体上。样品台可以在 x 和 y 方向移动。 UV-Vis光谱、粒度测量和TEM证实，该方法可用于制备具有抗菌活性的含银层，对革兰氏阴性大肠杆菌有很强的抗菌作用。
随着皮革工业的发展，羟基化后玻片亲水性的影响国内外对皮革及皮革制品提出了更高、更新的要求，推动了皮革技术的不断提高。如何提高印染率、降低能耗和环境污染已成为皮革染整行业亟待解决的问题之一。通过对皮革染色机理的分析，将不同的活性基团如羰基、羧基、羟基和胺...
