该工艺可得到多种环状产物或杂环结构。④双分子反应。例如，甲基的亲水性苯被用来形成联苯或三苯基。醚类可形成多种饱和和不饱和烃类。等离子体聚合在适宜的条件下，几乎所有的有机化合物都能被等离子体聚合。一般由光化学或自由基引发的气相聚合仅限于乙烯基有机化合物。除非单体分子中含有“极化基团”，否则只能得到低分子量聚合物，如苯乙烯、丙烯腈、甲基异丙醇酮等，除非先进行光敏处理，否则无法在气相中聚合。
当聚合物完全覆盖粉末表面时，羧基羟基甲基的亲水性接触角达到较大。通过改变粉末表面包覆聚合物的量，可以改变或控制粉末的表面能，提高其在有机载体中的分散性能。例如，在制备氧化锆陶瓷的工艺工程中，通过低温等离子体对超细ZrO2粉体进行改性，使聚乙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等不同聚合物层聚合在ZrO2粉体表面，这种聚合物膜的形成可以显著提高ZrO2粉体的分散性。。等离子清洗机对粉末的处理包括三个方面：1。提高粉末颗粒的亲水性。
对于现有制作工艺，羧基和甲基的亲水性大小未被光刻胶掩盖的部分为曝光区域，该区域中SU-8光刻胶产生的自由基分子相互热交联形成钝化性很强的环氧树脂，环氧树脂在常规后续显影、去胶过程中很难被去除。工业NMP（甲基吡咯烷酮）能溶胀并去除SU-8光刻胶，但耗时过长。浓硫酸与双氧水的混合溶液能去除SU-8光刻胶，但对其他结构损伤严重。高温灰化法采用高温灼烧去除SU-8光刻胶，该方法简单，但对金属器件损伤严重。
被处理物表面发生化学和物理变化，羧基羟基甲基的亲水性表面分子链结构发生变化，羟基、羧基等自由基基团建立，这些基团附着在各种涂层材料上。和...
