在非热力学平衡的冷等离子体中，电子电路等离子体去胶电子具有很高的能量，可以破坏材料表面分子的化学键，提高粒子的化学反应性（热等离子体）。由于中性粒子的温度接近室温，这些优点为热敏聚合物的表面改性提供了合适的条件。
氧等离子体表面处理对Ito薄膜的影响，电子电路等离子体清洗设备以提高Ito薄膜的电性能：铟锡氧化物（ITO）作为一种重要的透明半导体材料，不仅具有稳定的化学性质，而且具有优异的透光性和导电性。因此，它被广泛应用于光电子行业。 ITO的导带主要由In和Sn的5s轨道组成，价带主要由氧的2p轨道组成。
由于等离子清洗过程中不使用化学试剂，电子电路等离子体清洗设备因此不会造成二次污染。由于清洗设备可重复使用，设备运行成本低，操作简便灵活。清洗后的表面性能 局部等离子清洗也可以得到改善，有利于后续的金属处理和应用。等离子表面处理设备原理：等离子体中除了气体分子、电子和离子外，还有无数的中性原子、原子团、自由基和等离子体发出的光。等离子清洗是利用离子、电子、激发原子、自由基和污染物分子在清洁表面上的相应活化反应去除污染物的过程。
分立器件和电力电子元件雕刻底膜。然后等离子清洗机用于晶圆级封装的预处理： 2-1：晶圆级封装（WLP）是一种先进的芯片封装方法。也就是说，电子电路等离子体去胶整个晶圆被制造...
