电感耦合式等离子体（ICP）是等离子产生的一种新型方式，与传统的电容耦合等离子不同，其等离子产生和维持除了电场作用，还有感应磁场和二次电场作用。电感耦合式等离子是等离子研究后期出现的一种新型的方式，其机理是感应线圈中的交流电场，在反应室内耦合感应产生二次电场，在低气压状态下激发产生等离子体。电感耦合式等离子清洗机具有离子能量损失小、效率高、密度高等优点，是极具发展潜力的等离子清洗机类型。
ICP电感耦合等离子清洗机电容耦合式与电感耦合式等离子体的差异性能比较
传统型的等离子设备一般又称电容耦合等离子机(capacitorcoupledplasma，CCP或CP)或电场耦合式等离子机(electricfieldcoupledplasma)，因为两电极间所形成电容之间产生电场的等效电路故称之。这种电容式的等离子体系统虽行之有年，却有其据点存在。当粒子被RF电场加速时，其粒子顺着电场方向来回碰撞，因此造成两个问题，一为粒子因向上下两电极板加速产生碰撞造成动能的损耗，二为由于晶片通常置于其中一电极，在粒予向两极加速的过程中，易于对晶片上的元件造成损伤。又由于粒子动能的损耗使得电浆的效率无法提高，因此其密度只能维持在109ion，cm3的数量级。因此电容式电浆用于蚀刻时，基本上是具有物理蚀刻和化学蚀刻双重作用的合成。限于等离子体密度无法提高，单位面积内的活化离子数目以及化学蚀刻反应也受到了带电粒子数目的限制。在低压状况下(1．333mPa以下)，由于离子数目过低而造成等离子体无法维持的状...
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