在等离子硅片清洗机的大气压流动等离子反应器中，硅片亲水性测试方法影响等离子能量密度的主要因素是原料气体的流量F和等离子注入输入P。原料气体的流速是影响反应体系中活性粒子密度和碰撞概率的主要因素之一，而这两者的动态协同效应就是能量密度Ed（kJ/mol）。 Ed = P / F (1-20)式中，Ed为能量密度（kJ/mol），P为等离子体输出量（kJ/s），F为原料气体的摩尔流量（mol）。 / 秒）。。
等离子处理器广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、icp、硅片到橡胶涂层、icp、灰化活化和等离子表面处理等，硅片亲水性测试方法通过等离子表面处理的优点，可以提高表面润湿能力，使各种材料都可以进行涂覆、电镀等操作，提高粘接强度和粘结力，还能去除有机污染物、油污或润滑脂。等离子清洗机的表面清洗可以快速去除材料表面的油污、油污等有机物和氧化层。
阳极表面改性；用轮廓子体技术对ITO阳极进行表面改性，硅片亲水性不合格原因可有效优化其表面化学成分，大幅降低方阻，有效提高能量转换效率，改善器件光伏性能。涂层保护膜的预处理；硅片表面很亮，会反射大量阳光。因此，需要在其上沉积一层反射系数非常小的氮化硅保护膜。利用等离子体技术，可以活化硅片表面，大大提高其表面附着力。。等离子体脱脂设备原理分析等离子体是一种部分电离的气体，是常见的固、液、气态以外的第四态物质。
