1、458附着力促进剂（纪研458附着力促进剂） 以当今最先进的技术，纪研458附着力促进剂很难满足整个工艺的参数要求。此外，由于同时清洗多个晶圆，自动化清洗站无法避免相互污染的弊端。洗涤器还采用旋转喷雾的方法可用于适合用去离子水清洗的工艺，如晶圆切割、晶圆减薄、晶圆抛光、研磨和CVD，尤其是抛光后的晶圆清洗。单片清洗设备和自动清洗台的应用没有太大...
