二、等离子刻蚀在等离子刻蚀过程中，油墨印字附着力通过处理气体的作用，被刻蚀物会变成气相（例如在使用氟气对硅刻蚀时，下图）。处理气体和基体物质被真空泵抽出，表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来（例如半导体行业用铬做覆盖材料）。等离子方法也用于刻蚀塑料表面，通过氧气可以灰化填充混合物，同时得到分布分析情况。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的，如POM 、PPS和PTFE。
在等离子体中，油墨印字附着力的检验方法活性原子、自由基和不饱和键会在塑料表面产生，这些塑料很难形成键。这些活性官能团会与等离子体中的活性粒子发生反应，产生新的活性官能团。然而，具有活性官能团的物质会受到氧的作用或化学结构碎片的操作，使表面活性官能团消失。利用等离子体来完成原料表面层的生产和加工，这也是传统的表面处理方法无法完成的。等离子体的活性成分包括离子、电子、原子、活性官能团、受激核素(亚稳态)、光子等。
获得所需的目标产物选择性，油墨印字附着力因为氧化剂还导致产物进一步氧化，同时保持相对高的低碳烷烃转化率（如研究）。 1990年代以来，人们开始探索等离子体活化和等离子体催化剂协同活化的方法来进行低碳烷烃的转化反应。常压低温等离子体中的甲烷转化反应：甲烷（CH4）是天然气的主要成分，占天然气总量的90%以上。天然气储量非常丰富。
离子体清洗机可对材料表面进行表面清洗、表面活化、表面刻蚀： 清洗功能：等离子体是物质的一种状态，油墨印字附着力也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。
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使用超纯水对硅片表面进行清洗、干燥，实现符合清洁度要求的硅片。可以采用超声波、加热、真空等辅助技术手段来提高硅片的清洗效果。湿法清洗包括纯液体浸泡、机械擦洗、超声波/兆声波清洗、旋转喷淋等。相对而言，干洗是指等离子清洗、气相清洗、束流清洗等不依赖化学试剂的清洗技术。工艺技术和使用条件的差异也显着区分了市场上的清洁设备。目前，市场上主要的清洗设备包括单片清洗设备、主动清洗站和洗涤器。
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(2) 孔壁凹蚀 / 去除孔壁树脂钻污 对于一般FR-4多层印制电路板制造来说，其数控钻孔后的去除孔壁树脂钻污和凹蚀处理，通常有浓硫酸处理法、铬酸处理法、碱性高锰酸钾溶液处理法和等离子体处理法。
等离子处理器广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、等离子晶片脱胶、等离子镀膜、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等领域。
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