薄膜蚀刻（薄膜蚀刻方式有哪两种）薄膜蚀刻设备

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等离子辅助清洗技能是一种先进的制造行业中的精密清洗技能，在很多工业领域都可以使用到这种清洗技能，下面为大家介绍等离子清洗机在半导体制造中的使用清洗技能。化学气相沉积(CVD)和蚀刻技术广泛应用于半导体加工。CVD可用于积累多晶硅、氮化硅、二氧化硅和金属薄膜(如钨)。此外，电路中用于连接效果的微级管和细导线也采用CVD工艺在绝缘层上制作。在CVD过程中，部分残留物会在反应室壁上积累。

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可选(可选CD500/CG2000系列)输入电压:220VAC/ 380vac加工速度:5-400m /min(可根据要求定制)加工宽度:300-3000mm(可根据要求定制)加工表面:单面或双面放电电极:使用范围:不导电绝缘材料PP、PET、PE、PVC等薄膜表面电晕处理机的功能和特点:电晕处理机不仅不会降低薄膜固有的物理机械性能，薄膜蚀刻方式有哪两种而且提高其润湿性和油墨附着力。。