等离子体处理对氧化铟锡（ ITO ）亲水润湿性及性能的影响

ITO薄膜因其良好的导电性能、较高的可见光透过率以及易加工等特性，被广泛应用在平板显示、太阳能电池、透明电池、有机发光器件（OLED）、钙钛矿发光二极管（PeLEDs）及微波屏蔽等诸多领域。对于PeLEDs，空穴层直接旋涂在ITO薄膜表面。但是，若ITO薄膜没有较好的附着力和润湿性，极易影响成膜质量，导致器件效率低下。另外，ITO作为透明电极，其电荷注入能力和功函数也是影响器件效率的主要因素。因此，从器件整体角度出发，提高ITO薄膜的润湿性和性能参数显得尤为重要。
对于处理ITO薄膜的方法，人们尝试采用机械粗糙化、湿化学处理法、辉光放电、离子束轰击、等离子体（Plasma）处理等方法，其中等离子体处理的效果最为明显。等离子体技术可以将相对稳定的惰性气体变得更具化学活性，且可以通过改变气体控制具体的化学反应。在整个处理过程中，辉光放电使得整个样品表面经受高能粒子的（离子、电子）轰击，但其只对材料表面进行改性，深度只有几个纳米，并不会影响样品本身的性能。
等离子处理后ITO薄膜表面润湿性的变化
润湿性是由液体分子之间的内聚力和液体与固体之间的分子相互作用产生的粘合力两者相决定的，接触角是衡量润湿性的重要参数。图1为氧等离子体处理前后润湿性状态。比较处理前后ITO薄膜静态H2O的润湿性状态，可以发现：当一滴固定大小的蒸馏水滴至未处理的ITO薄膜时几乎不发生铺展，且形成一个高突的液滴；处理5min后的ITO薄膜滴入相同大小体积的蒸馏水液滴后几乎完全铺展开，并形成液体薄膜。245062450624506